技术编号:7110894
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及非常适用于非旋涂方式的正型光致抗蚀剂组合物,及应用这一组合物的抗蚀图形的形成方法。背景技术 以往,在应用小型玻璃基板制造液晶显示元件的领域中,作为抗蚀剂涂布方法,应用中央滴下后旋涂法(下述非专利文献1)。作为中央滴下后旋涂法,由于具有非常浪费抗蚀剂的量,而且难于应用于大型化基板,基板的中心部分与边缘部分抗蚀剂的膜厚差很大等问题,第四代基板(680mm×880mm)以后,特别是作为可以适用于第五代基板以后的大型基板的新抗蚀剂涂布法,提出了用喷嘴的新...
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