技术编号:7110967
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及洗涤液以及洗涤方法,特别是涉及硅等半导体基板表面的洗涤液以及洗涤方法。另外,本发明尤其涉及在半导体制造工序中被称为前段工序(FrontEnd Of Line,以下简称FEOL)的制作布线图案前的工序所使用的洗涤液。背景技术 随着IC的高度集成化,微量的杂质会对装置的性能、产量产生很大影响,因此,需要进行严格的污染控制。也就是,需要严格地控制基板的污染,因而在半导体制造的各个工序中使用各种洗涤液。半导体制造过程大致分为作为晶体管形成工序的FEOL和...
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