技术编号：7129838
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及太阳能电池片的加工，具体的说本发明是一种单晶硅太阳能电池片扩散偏磷酸片返工方法，即扩散时炉管内因进入水汽产生的偏磷酸滴落在电池片表面的清洗处理方法。背景技术目前，单晶硅太阳能电池对外观的要求比较高。在生产过程中，由于水汽进入扩散管导致偏磷酸滴落在电池表面造成的偏磷酸片很难用常规方法清洗干净。若偏磷酸残留在电池正面，会导致有偏磷酸的部分无法镀膜，严重影响到镀膜的效果；若偏磷酸残留在电池背面，会导致铝浆难以附着，影响到铝背场的印刷，从而使开路电压降低...
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