技术编号：7146338
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于清洗并干燥半导体衬底的旋转-清洗-干燥器。背景技术 本领域技术人员公知在例如硅晶片的半导体衬底(substrate)经过清洗工艺之后，可以使用旋转-清洗-干燥器(SRD)将其干燥。用SRD进行干燥可以防止在衬底表面上出现条痕、斑点或残余物沉积。以上所提到的同时待审的专利申请’660中公开了一种SRD，在该SRD中当衬底被清洗并旋转干燥时，该衬底在垂直方向上被支撑着。专利申请’660中所公开的SRD包括排列在旋转的衬底周围的遮护装置，其用来将已...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。