专利名称：旋转－清洗－干燥器用的亲水部件的制作方法
技术领域：
本发明涉及用于清洗并干燥半导体衬底的旋转-清洗-干燥器。
背景技术：
本领域技术人员公知在例如硅晶片的半导体衬底(substrate)经过清洗工艺之后，可以使用旋转-清洗-干燥器(SRD)将其干燥。用SRD进行干燥可以防止在衬底表面上出现条痕、斑点或残余物沉积。
以上所提到的同时待审的专利申请’660中公开了一种SRD，在该SRD中当衬底被清洗并旋转干燥时，该衬底在垂直方向上被支撑着。专利申请’660中所公开的SRD包括排列在旋转的衬底周围的遮护装置，其用来将已旋离衬底的流体引导出去。专利申请’660中提到遮护板或至少其面向衬底的表面应由例如石英的亲水材料形成，以防止液滴形成并滴在位于其下方的半导体衬底上。鉴于同一目的，专利申请’660中所公开的SRD外壳的顶部是倾斜的，并且是亲水的。
本发明人现在提出了一种成本效率高(cost-effective)的方式来提供具有合适的亲水表面的遮护板，SRD外壳的顶部和/或其上部的门。
发明内容
根据本发明的第一方面，SRD包括适于固定并旋转衬底的衬底支架，以及适于将流体供给位于衬底支架上的衬底表面的流体源。本发明的SRD还包括遮护板，其位于能接收在衬底支架上旋转的衬底所甩出的流体的位置处，该遮护板包括已颗粒喷涂的、面向衬底的表面。
这里和所附权利要求中所用的术语“颗粒喷涂”应理解为包括砂砾喷涂、沙粒喷涂、珠子喷涂以及类似情况的一种或多种。
根据本发明的第二方面，垂直SRD包括适于固定并旋转垂直方向上的衬底的衬底支架，以及适于将流体供给位于衬底支架上的衬底表面的流体源。根据本发明第二方面，本发明的垂直SRD还包括单个遮护板或遮护装置，该遮护装置包括多个垂直水平交错的遮护板，它们位于能接收在衬底支架上旋转的衬底所甩出的流体的位置处。至少一个遮护板，优选每个遮护板都具有已颗粒喷涂的面向衬底的表面。
根据本发明的第三方面，垂直SRD包括适于固定并旋转垂直方向上的衬底的衬底支架，以及适于将流体供给位于衬底支架上的衬底表面的流体源。根据本发明第三方面，本发明的垂直SRD还包括封闭衬底支架的外壳。该外壳有一呈斜面的顶部，该斜面适于引导流体沿着它从衬底支架上方的区域流走。该顶部有一已颗粒喷涂的较低表面。以上各个方面中，颗粒喷涂的表面还可包括能增加颗粒喷涂表面的面积的表面特征(surfacefeature)，并还可形成用于引导流体向所期望方向流动的通道，以避免液滴冲击衬底。
根据本发明的第四方面，提供了一种制造SRD遮护板的方法。本发明的方法包括形成适于安装在SRD外壳中并具有面向衬底表面的遮护板，该面向衬底的表面适于接收从固定在外壳内并在其中旋转的衬底所排出的流体。本发明的方法还包括对遮护板的面向衬底的表面进行颗粒喷涂，并可包括在其内形成增加表面面积的表面特征，或在其内形成引导流体向所期望方向流动的通道以避免液滴冲击衬底。
如本发明所提供的，对SRD的一个遮护板或多个遮护板的面向衬底的一个表面或多个表面进行颗粒喷涂可使这些面向衬底的表面产生亲水性，或可增加已是亲水表面的亲水性。
从下面对优选实施例、所附权利要求以及附图的详细描述可更全面地了解本发明的其他特点和优点。
图1是其中可应用本发明的SRD的透视图；图2是图1的SRD的侧截面图；图3是作为图1中可应用本发明的SRD的一部分的遮护装置的侧截面图；图4是图1的SRD的前截面图；图5是可根据本发明另一方面所提供的遮护板的局部等角视图；图6是图5的遮护板的局部横截面图。
具体实施例方式
在垂直SRD中，一个遮护板或多个遮护板的装置用来接收在SRD内被清洗并旋转的衬底所甩出的流体。遮护板的面向衬底表面的至少部分是颗粒喷涂面。优选地，该颗粒喷涂面要足以呈现出亲水性或增加已是亲水表面的亲水性。亲水性是所期望的，这样能阻止可能会落到衬底上的液滴的形成。该颗粒喷涂面可应用在SRD的倾斜顶部的内表面，其中该SRD在一方面可以包括可移动门。
现在将参照图1-4描述示例性SRD的某些方面。虽然图1-4的SRD适于处理垂直方向上的衬底，但应该注意本发明也可用于处理其他方向上的衬底的SRD中。
首先，参照图1，标号101一般表示SRD。SRD101包括外壳103。外壳103包括前面103a(图2)、背面103b、顶部103c、第一侧壁103d和第二侧壁103e。在所示实例中，SRD外壳103的顶部103c从第一侧壁103d向下倾斜到第二侧壁103e，以使顶部103c上收集的任意流体将趋于流向顶部103c较低的一侧，并沿着第二侧壁103e流下。显然，SRD外壳的顶部可在其他方向上倾斜，以使流体从直接位于以下将要处理的衬底上方的区域流走。
SRD外壳103的顶部103c有一大小能允许衬底插入和取出的开口118。滑动门120可装在一对导轨123a和123b上，以便来回滑动从而打开或关闭开口118。SRD外壳103的底壁103f可倾斜至较低点117。在较低点117处排水管119可连接至底壁103f，从而移出SRD外壳103中的清洗液。
现在将参照图2描述SRD101的内部结构。图2中，在SRD101内从可旋转飞轮205伸出的一对夹子G在垂直方向上支撑着衬底201。通过SRD外壳103的背面103b上的开口可将飞轮205连接至马达207。一对清洗液喷嘴208a和208b连接至清洗液源(未示出)，二者位于分别向衬底201的前表面和后表面(例如，向其中间)提供清洗液的位置处。
外壳103内使用包括主遮护板213、下部遮护板215和上部遮护板217的遮护装置，用来接收衬底201甩出的流体。图3中单独示出了该遮护装置，并参照该图对其进行具体的描述。
图3是图1的SRD的遮护装置的侧截面图。在一个实施例中，如图所示的，主遮护板213呈锥形薄片形状，其可包围位于飞轮205(图2，图3中未示出)上的衬底201周边的全部或一部分，并可具有向下倾斜的截面。因而，主遮护板213从较大直径向较小直径(例如，最靠近飞轮205)倾斜。这些直径优选地选定为使得主遮护板213的面向衬底的表面300具有一个5°-45°范围内的锐角(与法线的夹角)。在主遮护板213的一个实施例中，面向衬底表面300与法线成18°角。根据本发明，主遮护板213的面向衬底表面300的至少一部分具有颗粒喷涂面以具有亲水性，以使衬底201所排出的、击在主遮护板213的面向衬底表面300上的流体沿其流动，从而阻止液滴形成并滴在衬底201上。以下将描述处理主遮护板213的面向衬底表面300的细节。
在本发明的一个实施例中，主遮护板的面向衬底表面300与外表面302是平行的，以使外表面302和面向衬底表面300共享向下的斜面。主遮护板213的外表面302可具有沿其各边缘的凸出区301a和301b，以防止清洗液流过主遮护板213的外表面302的各边缘，而落在位于主遮护板213的上部以下的衬底201上。
在SRD101中处理衬底201的过程中，主遮护板213的位置如图2和3中所示。然而，可以观察到在图2和3中所示的位置处，主遮护板213的一部分位于衬底201的上方，所以阻塞了将衬底201通过开口118(图1)插入并放置在飞轮205上的路径。因此，主遮护板213从图2和3中所示位置处可移到另一位置(未示出)，在该处，主遮护板213不会妨碍在飞轮205上放置衬底201(或从飞轮205上取走衬底201)。如图4中所示的，由于主遮护板213是通过一对由气动连接件401a和401b安装到外壳103内的，所以它在以上所讨论的两个位置之间可以移动。具体地，通过由气动连接件401a将主遮护板213连接至第一侧壁103d，并通过由气动连接件401b将其连接至第二侧壁103e。例如，主遮护板213可以统一向前移动，或者其上部可向前或向后倾斜。
再参照图3，根据本发明一个实施例所提供的下部遮护板215也可呈锥形薄片的形状。在所示的实例中，下部遮护板215仅包围衬底201周边的上半部分，但是也可使用其他结构。下部遮护板215可从较大半径向较小半径倾斜，并且较大半径靠近主遮护板213，而较小半径远离主遮护板213。这些半径可选定为使得下部遮护板215的面向衬底表面304具有一个5°-45°范围内的锐角(在一个实施例中为36°)，以使清洗液沿着它从衬底201流走。类似主遮护板213的面向衬底表面300，下部遮护板215的面向衬底表面304具有颗粒喷涂面以具有亲水性。以下描述本发明使得面向衬底表面304具有亲水性的处理工艺。
在本发明的一个实施例中，下部遮护板215的面向衬底表面304与外表面306可以是平行的。通过支架303(图3)可将下部遮护板215连接到外壳103的背面103b(图2)。
类似主遮护板213和下部遮护板215，上部遮护板217可描述为锥形薄片(例如，具有向下倾斜的截面)，在所示实例中，上部遮护板217包围衬底201周边的上四分之一部分。上部遮护板217从较大半径向较小半径倾斜，较小半径可最靠近飞轮205(图2)。这些半径可选定为使得上部遮护板217的面向衬底表面308具有一个5°-45°范围内的锐角，并且在一个实施例中为10°，以使清洗液沿着它流向主遮护板213(以下作进一步描述)。上部遮护板217的面向衬底表面308也可以具有颗粒喷涂面以具有亲水性。
可以观察到图中所示的面向衬底表面300、304和308是凹面，并且通过支架305(图3)可将上部遮护板217连接到外壳103的前面103a(图2)。
主遮护板213、下部遮护板215和上部遮护板217是以垂直水平交错的方式排列的，这样在飞轮205(图2)与其上所支撑的衬底201一起旋转时，可以接收衬底201和飞轮205所排出的流体。遮护板213、215和217适于将流体从衬底201的上方区域带走。在一个实施例中，如所示的，上部遮护板217的较低高度的(或小直径)边缘与主遮护板213的较高高度的(或较大直径)边缘相重叠，而主遮护板213的较低高度的边缘与下部遮护板2 15的较高高度的边缘相重叠。相邻遮护板的边缘可垂直隔开，但间隔较小(例如0.3英尺)，以使在衬底201的上方区域，流体从遮护板217的面向衬底表面308或遮护板213的面向衬底表面300分别流向遮护板213的外表面302或遮护板215的外表面306，并且使流体飞溅最小。遮护板213、215和217之间的垂直间隔较小还可便于流体沿着遮护装置转移(有关SRD101的整个操作以下将作进一步描述)。
如前面提到的，上部遮护板217和下部遮护板215可以并不是仅在衬底201的顶部周围延伸，它们中的任一个或二者都可延伸以包围衬底201的任意部分或整个周边。还应该理解，主遮护板213可以并不是在衬底201的整个周边周围延伸，它可以仅沿着衬底201的上部延伸。
外壳103的倾斜的顶部103c(图1)的内表面可以具有颗粒喷涂面以具有亲水性，从而阻止在顶部103c的较低表面上形成液滴并掉下。类似地，门120的内表面可以是颗粒喷涂的。以下将描述制造具有颗粒喷涂面的遮护板的方法。
首先，由例如聚碳酸酯或类似物质的易磨蚀但仍是刚性的材料形成遮护板(例如，通过真空形成工艺)。所形成的遮护板的形状和大小应适于安装在SRD外壳中(例如，遮护板213、215或217的其中一个)。因而，遮护板可具有凹面，该凹面适合作为面向衬底的表面，并接收固定在SRD外壳中并在其中旋转的衬底所排出的流体。
接着，对遮护板的凹面进行颗粒喷涂，以使凹面具有亲水性。如这里所用的，如果与表面接触的水性流体(即主要由水组成的流体，例如纯去离子水(DIW)或无限稀释液，例如含有大于90％的DIW，优选含有至少98％的DIW的表面活性溶液)趋于形成薄片，而不是形成分散的液滴，则认为该表面具有“亲水性”。形成具有亲水性的聚碳酸酯遮护板的示例性的颗粒喷涂工艺可以包括使用例如由USF Surface Preparation生产的、产品牌号为SC100BEX的、级别为Anisgrade的碳化硅100碳黑的喷涂介质进行砂砾喷涂。可以在75-80磅/平方英尺的空气压力下，喷嘴距离凹面约6英寸的条件下，利用该介质进行砂砾喷涂。在本发明的一个实施例中，在砂砾喷涂操作过程中连续地移动喷嘴，以防止过度腐蚀该凹面。可对凹面的全部或部分进行砂砾喷涂，并且可以形成例如RA值约60-75的表面。
将凹面砂砾喷涂之后，可以以常规方式(例如，使用去离子水)清洗遮护板。
由于进行了砂砾喷涂，遮护板的面向衬底的表面将具有亲水性，以使该表面上的流体与表面本身之间的接触角增加，从而促进流体形成薄片，而防止形成可能落在衬底上的液滴。
类似地，外壳103的顶部103c和/或门120的内表面可以是砂砾喷涂的或颗粒喷涂的，以使顶部103c的内表面具有亲水性，从而促进流体形成薄片，沿着顶部103c流向外壳103的第二侧壁103e，并防止在顶部103c的内表面上和/或在门120上形成液滴。
在本发明可替换的实施例中，至少在遮护板的面向衬底的表面上，或在SRD外壳顶部的内表面上和/或在外壳顶部的门上形成表面特征。这些特征增加表面面积，形成更大的可供流体沿其流动的面积，从而阻止了液滴的形成(例如，表面特征可以具有一般光滑的边缘和较低的轮廓(lowprofile)，以防止形成可能阻碍流体流动的障碍物)。优选地，这些特征还是特定形状的，以从该特征化表面(featured surface)的最高处引导流体。这种引导形状将是不阻碍流体流动的(例如，光滑并具有较低的轮廓)，并且将是沿着向下的斜面延伸(例如，沿着遮护板的倾斜的截面，沿着在垂直方向的遮护板向下倾斜的遮护板周围，或沿着SRD的顶部斜面或门)。优选地，在高于衬底的高度处，或直接在衬底上方的遮护板的至少一部分具有以上所述的本发明的特征化结构。遮护板的不面向衬底的表面也可包括以上所述的特征。使用这种既颗粒喷涂的，其内部又形成了以上所述特征的表面已获得优异的效果。
图5是根据本发明可替换的实施例所提供的示例性的主遮护板213a的局部等角视图，图6是可替换的主遮护板213a的局部横截面图。如在图6中清楚看到的，可替换的主遮护板213a例如可具有波纹结构(601处所示)，例如所示的正弦波结构。注意这种示例性的正弦波结构将从特征化表面的最高处引导流体流走。其他结构也可用于引导流体沿其流动，例如类似地沿着向下的斜面延伸的人字形图案、沟槽或肋状结构。此外，可替换的主遮护板213a的面向衬底的表面可以是颗粒喷涂的以具有亲水性。可替换的主遮护板213a中波形结构的存在增加了面向衬底表面的表面积，从而增加了面向衬底表面的用于排走衬底201的流体的能力。作为图5和6中所示的正弦波形结构的平行通道的替代，主遮护板可以具有其他特征结构(未示出)来帮助流体从衬底201流走(例如，可在较小特征的整个图案上排列形成通道的人字形图案等)。虽然该示例性的特征化表面是在遮护装置的主遮护板上示出的，但应该理解其可应用在任意遮护板上，或者应用在如果不经过这种特征化处理就可能形成液滴的任意表面上。
在操作图1-4的SRD101过程中，滑动门120沿着导轨123a、123b滑动到打开的位置，这种情况下，如图1中所示的开口118暴露在外。飞轮205的所处位置和结构(例如，可以是在以上提到的申请’660中所描述的方式)要能容纳衬底201。衬底处理机(未示出)通过开口118放低衬底201，并将衬底201移至飞轮205。再将衬底201固定在飞轮205上(例如，如以上提到的申请’660中所描述的)。随后，飞轮205开始旋转。飞轮205最初可以以相对较低的速度(例如，每分钟100-500转(rpm))旋转，同时清洗液喷嘴208a、208b将清洗液供给衬底201的前表面和后表面的中间位置。衬底201被充分清洗后，马达207可以增加飞轮205的旋转速度(例如，约1000-2500rpm)，以便通过增大旋转速度将清洗液甩离衬底201。
在清洗以及干燥步骤中，清洗液可以从衬底201被甩至遮护装置的面向衬底表面300、304和308(图3)。大部分流体被主遮护板213接收，但是也有流体落在下部遮护板215、上部遮护板217以及外壳103的下部未遮护部分上，或者流体可凝结在外壳103的顶部103c的较低表面上。
在一个实施例中，可以将主遮护板213转动一个角度，以使击在主遮护板213的流体至少部分能弹到外壳103的前面103a上，因此不会集中在主遮护板213上。而且，根据本发明，遮护板213、215和/或217的其中一个或多个的面向衬底表面300、304、308的部分或全部都已被喷涂颗粒以具有亲水性，以使未弹回的流体沿其成片地流动，而不是形成可能会落到衬底201上的液滴。流体可以沿着上部遮护板217的面向衬底表面308的向下倾斜的截面流向主遮护板213的顶部/不面向衬底的表面302。流体可以从主遮护板213的不面向衬底的表面302流向下部遮护板215的不面向衬底的表面306，并从下部遮护板215的不面向衬底的表面再流向外壳103的背面103b。然后清洗液沿着外壳103的背面103b流向外壳103的底壁103f，在这里可以用泵将流体抽走(未示出)。
类似地，流体可以从主遮护板213的面向衬底的表面300流向下部遮护板215的不面向衬底的表面306。一方面，由于下部遮护板215具有相对较大的锥角，落在下部遮护板215的面向衬底的表面304或不面向衬底的表面306上的任意流体将快速流向外壳103的背面103b。注意遮护板213、215和217的其中任一个都可以具有特征化表面，如前所述，这样可增加表面积，并阻止液滴形成。如果特征化表面适于引导流体流动，则该特征化表面，例如，可以具有沿着遮护板的面向衬底表面的向下斜面和/或沿着遮护板的不面向衬底表面的向下斜面引导流体流动的特征，以使流体如前所述的从一个遮护板的面向衬底表面流向另一个较低的遮护板的不面向衬底表面。图6的局部等角视图中示出了具有表面特征的遮护板，这种表面特征沿着遮护板截面的向下的斜面引导流体。
然而，如果表面特征适于引导流体沿着遮护板的内周或外周流动(如图5和6中所示的)，则流体可能沿着遮护板的周围流动，而不是沿着遮护板的向下倾斜的截面流动，以及/或者可能同时沿着周围和向下倾斜的截面流动(例如，以对角线方式，如在图5中箭头A所示)。
由于顶部103c的斜面，到达外壳103的顶部103c的任意流体趋于沿其流向外壳103的第二侧壁103e。在本发明的至少一个实施例中，根据本发明，外壳103的顶部103c的内表面和/或门120可以是已颗粒喷涂的，从而具有亲水性，促进流体在顶部103c的内表面上和门120上形成薄片，防止在其上形成液滴。然而，如果在外壳103的顶部103c的内表面上和门120上形成液滴，该液滴将落在遮护装置的不面向衬底的表面上，并沿其流动，而不会接触衬底201。不管顶部103c的内表面或门120是否也是颗粒喷涂的，这些表面其上都可形成增加表面面积并可选地引导流体流动的特征。
衬底201旋转的同时，流体沿着衬底201的表面流动，清洗其残余物。可以通过加热装置和/或气体流动装置来帮助干燥衬底201，这里未示出这样的装置，但在以上提到的专利申请’660中公开了。衬底201充分干燥后，马达207使飞轮205的旋转减慢直至停止。然后松开把衬底201夹在飞轮205上的夹子，释放衬底，门120滑开，衬底处理机(未示出)将已清洗干燥的衬底201从SRD101中取出。
本发明的颗粒喷涂的部件可以较低廉地制造并提供优异的流体遮护装置。
前面的描述仅公开了本发明的示例性实施例；对于本领域技术人员，对以上所公开的装置和方法进行改进是显而易见的，并且落在本发明范围内。例如，遮护装置可以包括一个或任意个遮护板。遮护装置可以转动某一角度，以将流体导向SRD外壳的前面，或第一侧壁或第二侧壁。每个遮护板的面向衬底的表面以及不面向衬底的表面不必平行。遮护装置的一个或多个遮护板不必是锥形的，面向衬底的表面也不必是如图所示的形状。虽然这里是结合在给定时间内处理单个衬底的SRD来公开遮护装置，但它也适于一次批量处理两个或多个衬底的SRD。而且，虽然这里是结合垂直SRD(即，在其中衬底在垂直方向上被旋转并清洗的SRD)描述本发明，但本发明可用于在水平方向上或垂直方向以外的任一方向上旋转并清洗衬底的SRD。
本发明可用于清洗和干燥硅晶片的SRD，以及/或者用于处理其他类型衬底的SRD。
这里是结合其中利用砂砾喷涂使得一个或多个遮护板的面向衬底的表面具有亲水性的实施例来描述本发明。然而，也可使用例如沙粒喷涂或珠子喷涂或类似方法的其他类型的颗粒喷涂。而且，遮护板的面向衬底的表面的全部或部分都可喷涂颗粒。因此，如这里以及所附权利要求中所用的，颗粒喷涂表面包括全部或部分被喷涂颗粒的表面。该表面可以由亲水材料组成(例如，涂布亲水材料，具有亲水材料衬垫，或由固态亲水材料制成)，并且通过颗粒喷涂可增加其亲水性。
如上所提到的，本发明可用于SRD的遮护装置，其中在该遮护装置中可包括一个、两个或多个遮护板。如果该遮护装置包括两个或多个遮护板，任意一个或多个遮护板可具有带颗粒喷涂面的面向衬底的表面。而且，一个或多个遮护板的不面向衬底的表面也可以喷涂颗粒。而且，根据本发明，不管是否使用了具有颗粒喷涂表面的遮护板，SRD外壳顶部的内表面和/或门都可以喷涂颗粒，也可以不喷涂颗粒。
虽然已提到安装支架303，305(图3)与它们各自的遮护板215和217是分开的，但支架303，305的其中一个或两者都可以与各自的遮护板215和217整体形成。
因此，虽然已结合示例性的实施例公开了本发明，但应该理解如所附权利要求所定义的，其他实施例也将落在本发明的精神和范围内。
权利要求
1.一种SRD，包括衬底支架，适于固定并旋转衬底；流体源，其适于将流体供给位于所述衬底支架上的衬底的表面；以及遮护板，其位于能接收在所述衬底支架上旋转的衬底所排出的流体的位置处，并包括面向衬底的表面，该表面的至少一部分是颗粒喷涂面。
2.如权利要求1所述的SRD，其中所述颗粒喷涂面具有亲水性。
3.如权利要求2所述的SRD，其中所述衬底支架在垂直方向上固定并旋转所述衬底。
4.如权利要求3所述的SRD，其中所述遮护板的至少部分在高于所述衬底支架的高度处。
5.如权利要求4所述的SRD，其中当所述衬底支架固定并旋转所述衬底时，所述颗粒喷涂面的至少部分在所述衬底的上方。
6.如权利要求4所述的SRD，其中所述遮护板在第一位置和第二位置之间是可移动的；在所述第一位置处，当所述衬底支架固定并旋转所述衬底时，所述遮护板的至少部分在所述衬底的上方；在所述第二位置处，所述遮护板不会妨碍将所述衬底从所述衬底支架上方的位置放置在所述衬底支架上。
7.如权利要求4所述的SRD，其中所述颗粒喷涂面具有向下倾斜的截面。
8.如权利要求7所述的SRD，其中所述遮护板的顶部表面具有向下倾斜的截面。
9.如权利要求1所述的SRD，其中所述遮护板含有聚碳酸酯。
10.如权利要求9所述的SRD，其中所述遮护板是一整块模制的聚碳酸酯。
11.如权利要求9所述的SRD，其中所述颗粒喷涂面是砂砾喷涂面。
12.如权利要求1所述的SRD，其中所述遮护板是一整块模制的聚碳酸酯。
13.如权利要求4所述的SRD，其中所述面向衬底的表面具有从所述遮护板的最高处引导流体的表面特征。
14.如权利要求4所述的SRD，其中所述面向衬底的表面具有多个通道，这些通道设置为引导流体沿着所述遮护板的周围流动。
15.如权利要求4所述的SRD，其中所述颗粒喷涂面具有向下倾斜的截面，并且其中所述通道设置为引导流体沿着所述向下倾斜的截面流动。
16.一种垂直SRD，包括衬底支架，适于固定并旋转垂直方向上的衬底；流体源，适于将流体供给位于所述衬底支架上的衬底的表面；以及遮护装置，其包括多个垂直水平交错的遮护板，且位于能接收在所述衬底支架上旋转的衬底所甩出的流体的位置处，其中至少一个遮护板具有面向衬底的表面，该表面具有颗粒喷涂面。
17.如权利要求16所述的SRD，其中所述多个遮护板包括主遮护板，其中所述面向衬底的表面从最靠近所述衬底第一侧面的较高的高度处转动一定角度至最靠近所述衬底第二侧面的较低的高度处，以使所述流体沿其流向所述主遮护板的下部边缘；位于低于所述主遮护板的高度处的下部遮护板，其从所述主遮护板以下的一点延伸至超过所述主遮护板的下部边缘的一点，并从最靠近所述主遮护板的下部边缘的较高的高度处转动一定角度至最远离所述主遮护板的较低的高度处；以及位于高于所述主遮护板的高度处的上部遮护板，其从所述主遮护板以上的一点延伸至超过所述主遮护板的上部边缘的一点，并从最靠近所述主遮护板的上部边缘的较低的高度处转动一定角度至最远离所述主遮护板的较高的高度处。
18.如权利要求16所述的SRD，其中所述至少一个颗粒喷涂面的至少一部分具有亲水性。
19.一种垂直SRD，包括衬底支架，适于固定并旋转垂直方向上的衬底；流体源，适于将流体供给位于所述衬底支架上的衬底的表面；以及封闭所述衬底支架的外壳，所述外壳的顶部具有斜面，该斜面适于使流体从所述衬底支架上方的区域沿其流走，所述顶部具有包括颗粒喷涂面的较低表面。
20.如权利要求19所述的SRD，其中所述顶部的较低表面的至少一部分具有亲水性。
21.一种制造SRD部件的方法，该方法包括形成适于安装在SRD外壳中的遮护板，该遮护板具有适于接收固定在所述外壳内并旋转的衬底所排出的流体的凹面；以及对所述遮护板的凹面进行颗粒喷涂。
22.如权利要求21所述的方法，其中进行所述颗粒喷涂的步骤使得所述遮护板的凹面产生亲水性。
23.如权利要求21所述的方法，其中进行所述颗粒喷涂的步骤包括对所述遮护板的凹面进行砂砾喷涂。
24.如权利要求21所述的方法，其中所述形成步骤包括对聚碳酸酯材料进行模压。
25.一种至少部分包围被旋转干燥的衬底的遮护板，该遮护板包括适于至少部分围绕半导体衬底的周边延伸并面向所述半导体衬底的凹面，其具有呈现亲水性的颗粒喷涂面。
26.如权利要求25所述的遮护板，其中所述凹面具有在其内形成的多个表面特征以增加表面积。
27.如权利要求26所述的遮护板，其中当所述遮护板在垂直方向时，所述表面特征还适于从所述遮护板的最高处引导流体。
28.如权利要求27所述的遮护板，其中所述凹面具有倾斜的截面，所述表面特征适于沿着所述倾斜的截面引导流体。
29.如权利要求27所述的遮护板，其中所述表面特征适于沿着所述凹面的周围引导流体。
30.如权利要求27所述的遮护板，其中所述表面特征具有正弦波形的截面。
31.一种至少部分包围被旋转干燥的衬底的遮护板，该遮护板包括适于至少部分在半导体衬底周边的周围延伸并面向所述半导体衬底的凹面，其具有在其内形成的多个表面特征以增加表面积。
32.如权利要求31所述的遮护板，其中当所述遮护板在垂直方向时，所述表面特征还适于从所述遮护板的最高处引导流体。
33.如权利要求32所述的遮护板，其中所述凹面具有倾斜的截面，所述表面特征适于沿着所述倾斜的截面引导流体。
34.如权利要求32所述的遮护板，其中所述表面特征适于沿着所述凹面的周围引导流体。
35.如权利要求34所述的遮护板，其中所述表面特征具有正弦波形的截面。
全文摘要
旋转－清洗－干燥器(SRD)包括适于固定并旋转衬底的衬底支架，以及适于将流体供给位于衬底支架上的衬底表面的流体源。该SRD还包括至少一个遮护板，其位于能接收在衬底支架上旋转的衬底所排出的流体的位置处。该遮护板包括面向衬底的表面，该表面是颗粒喷涂的，使得该面向衬底的表面具有亲水性。
文档编号H01L21/304GK1565045SQ03801150
公开日2005年1月12日 申请日期2003年7月25日 优先权日2002年7月26日
发明者詹姆斯·W·弗龙斯达尔, 斯韦特兰娜·舍曼 申请人:应用材料公司