技术编号：7151021
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及集成电路，尤其涉及在衬底中带有凹部(recess)的集成电路。相关技术在集成电路的制造中，由于尺寸变得更小而变得更为明显的一个问题是在衬底中的凹部，这种凹部出现在标准加工过程中。由于在刻蚀掉在衬底上的一部分材料层的过程中露出了衬底，因此最初出现了衬底中的凹部。在去除掉被刻蚀层的过程中和/或之后，将刻蚀剂施加到衬底上一段时间。一个例子是有这样一个位置，当另一种材料在不同位置一开始刻蚀，在该位置中就有露出的衬底。另一个例子是，在刻蚀其它位置的材料的过...
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