Cmos硅器件的制作方法技术资料下载

技术编号:7175791

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本实用新型涉及微电子领域,尤其涉及一种CMOS硅器件。 背景技术随着CMOS工艺的发展,CMOS集成电路成为集成电路发展的主流,在CMOS工艺的发展过程中,形成了标准CMOS工艺。采用标准CMOS工艺制造的一种CMOS硅器件中,N阱 (N-well)周围紧邻着P阱(P-well)。如图IA所示,为现有技术中CMOS硅器件的平面图, 如图IB所示,为现有技术中图IA所示示意图沿AA线的剖面图,该CMOS硅器件包括N阱 11、P阱12和P型硅衬底13,N阱11...
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