技术编号:7181522
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于半导体制造装置,特别是一种半导体制程机台。背景技术 对于使用晶圆承载容器(SMIF POD)的晶圆厂,在不同制程的环境要求下,有区域性隔离需求,晶圆在生产阶段须限制进出此隔离区域的机台,以避免产生机台污染。如图1所示,一般半导体制程机台10具有许多不同制程的站别11、12、13、14、15,而在这些站别中可分成两区域1A、1B,其中1B区域即为需隔离的区域,例如站别14为进行铜制程的机台,站别15为进行铝制程机台。当晶圆承载容器(SMIF POD...
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