技术编号:7194857
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。载台装置本实用新型是关于一种载台装置,特别是关于一种应用白努利(Bernoulli)原 理,可以喷出气体形成压差,而能对于光电半导体薄片形工件进行吸附的载台装置。背景技术在电子产业或光学产业中,对于光电半导体薄片形工件进行蚀刻作业,是将光电 半导体薄片形工件置放于旋涂机的载台装置上进行旋转,并于上方喷洒蚀刻液,而可借由 旋转离心力,使蚀刻液能以离心力向外流动而均布于光电半导体薄片形工件表面进行蚀刻 作业。 上述旋涂机的载台装置中设置吸气定位件,该吸气定位件...
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