技术编号:7205629
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。用于安瓿的加热阀歧管发明背景 发明领域本发明的实施方式涉及一种用于储存和传输化学前驱物的装置和方法,更具体 地,涉及一种加热阀歧管及其方法。现有技术描述集成电路已经发展成在单个芯片上包括上百万个晶体管、电容器和电阻器的复杂 器件。芯片设计的发展持续需要更快的电路和更大的电路密度,这需要日益精确的制造工 艺。基板的精细工艺需要对工艺期间所使用的流体传输中的温度、速率和压力的精确控制。化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)是用于在基板上形成或沉积各种材料...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。