技术编号:7207882
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明总体上涉及半导体器件领域,尤其涉及辐射探测器。 发明内容在一个实施例中,一种形成钝化层的方法包括将宽带隙半导体材料的至少一个表 面与包括碱性次氯酸盐(hypochloride)的钝化剂接触以在所述至少一个表面上形成钝化层。在另一实施例中,一种钝化单片、多通道半导体辐射探测器的方法包括(a)提供碲 化镉或碲化镉锌基板,该基板在其第一表面上具有分段阳极电极阵列并且在其第二表面上 具有阴极电极,以及(b)通过将基板的第一表面与包括次氯化钠的溶液接触至少在阳...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。