技术编号：7209584
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是有关于一种离子植入，且特别是有关于一种分子离子的离子植入技术。 背景技术离子植入(ion implantation)是一种利用荷能离子直接轰击(bombardment)基板来将化学物种沉积到此基板中的过程。在半导体制造过程中，离子植入机主要是用在改变目标材料的导电类型与导电程度的掺杂制程中。集成电路(integrated circuit, IC)基板中的精确掺杂轮廓及其薄膜结构对于适当的集成电路性能而言通常是至关重要的。要得到想要的掺杂轮廓，可按不...
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