技术编号：7229611
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及基板处理装置，基板吸附方法和存储介质，特别是涉及具有吸附基板的静电卡盘的基板处理装置。背景技术 对作为基板的晶片进行等离子体处理，例如进行蚀刻处理的基板处理装置具有收容晶片的收容室，和配置在该收容室内，载置晶片的载置台。该基板处理装置在收容室内产生等离子体，利用该等离子体对晶片进行蚀刻处理。载置台在其上部具有由在内部有电极板的绝缘性部件构成的静电卡盘，晶片载置在静电卡盘上。当对晶片进行蚀刻处理时，将直流电压加在电极板上，利用由该直流电压产生的库仑...
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