技术编号:7230723
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及对例如半导体晶片及LCD基板(液晶显示器用玻璃基板)等基板进行基板的清洗处理、抗蚀剂液的涂敷处理、及曝光后的显影处理的涂敷、显影装置及涂敷、显影方法。背景技术 对半导体设备及LCD基板等基板进行抗蚀剂液的涂敷,使用光掩模曝光其抗蚀剂膜,通过进行显影而在基板上制作所希望的抗蚀剂图形的一系列的处理,是使用将曝光装置连接于进行抗蚀剂液的涂敷及显影的涂敷、显影装置上的系统而进行的。涂敷、显影装置构成为将以下的部件配置为一列载置晶片盒、具有在该晶片盒之间进...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。