技术编号:7242745
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供了制备反射膜的方法,包括向反应装置中充入保护气体、加压并发射微波,将反应装置调至第一温度,充入硅烷和一氧化二氮,体积比例在1∶1-1∶3;反应20-100分钟,得到第一层二氧化硅薄膜;达到时间后,停止充入硅烷和一氧化二氮,充入四异丙基钛和氧气,体积比例在1∶1-1∶2,温度调至第二温度;反应10-60分钟,得到第二层二氧化钛薄膜;四异丙基钛和氧气达到时间后,停止充入四异丙基钛和氧气,温度调至第一温度,充入硅烷和一氧化二氮;反应10-60分钟,得到...
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