技术编号:7248648
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种沟槽式金属氧化物半导体场效应管,包括位于终端区的多个悬浮的沟槽栅,其沟槽深度大于或者等于位于有源区的体区的结深。该沟槽式金属氧化物半导体场效应管还包括至少一个沟道阻止沟槽栅,其围绕在所述的悬浮的沟槽栅的外围并连接到至少一个延伸入切割道的切割沟槽栅,以防止在漏区和源区间形成漏电通道。专利说明沟槽式金属氧化物半导体场效应管[0001]相关申请的交叉引用[0002]本申请案要求对于2012年6月29日提交的美国专利申请第13/537,102号的优...
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