技术编号:7250295
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及。所述用于晶体硅片的纹理蚀刻溶液组合物包括碱性化合物;多糖;与多糖一起的最佳含量的脂肪酸、脂肪酸的金属盐或者它们的混合物,以在晶体硅片的表面上均匀地形成具有微锥体结构的纹理,以便在降低光反射的同时最大化太阳能的吸收,从而提高发光效率。专利说明[0001]本发明涉及用于晶体硅片的纹理蚀刻组合物以及纹理蚀刻方法,该方法能够均匀地形成晶体硅片的表面以具有微锥体结构,从而提高发光效率。背景技术[0002]近年来,太阳能电池快速增长且被称作下一代能源和直接...
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