技术编号：7253944
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开能够在Cu-Ga层内均匀地添加Na成分的利用低温喷射的溅射靶的制造方法以及执行该方法的低温喷射装置。根据本发明的利用低温喷射的溅射靶的制造方法，在低温喷射装置的前方配置由金属构成的衬板或母材之后，将由CuGa按73～82的重量比合金化后的Cu-Ga粉末、和相对于Cu-Ga粉末为0.01～0.05重量百分比的Na2S粉末构成的混合粉末供给到低温喷射装置内的混合室之后，向混合室内供给工作气体并将与所供给的工作气体一起高速喷射的混合粉末涂覆在上述衬板或...
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