技术编号：7254216
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种可用于存储流体并供给被存储流体的流体供给装置。背景技术在半导体元件等电子组件、液晶显示装置(IXD Liquid Crystal Display)等显示装置、生物产业、制药产业、太阳能产业等的制造系统中使用流体供给装置。例如，所述流体供给装置可以向所述制造系统提供流体，即，在所述制造系统中使用的光刻胶、蚀刻剂、化学气相沉积反应剂、溶剂、晶片及工具洗涤剂、化学机械抛光组合物等。图I是现有技术涉及的流体供给装置的概略剖视图，图2是示出在现有技术涉...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。