半导体器件的制作方法技术资料下载

技术编号:7259119

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本发明涉及半导体器件。具体地,本发明提供一种垂直二极管,包括衬底;n层和p层,设置在衬底的顶面上的n层和p层由GaN形成;形成在衬底的背面上的n电极;以及形成在p层的表面上的p电极。在器件的外周形成有台阶。形成有连续地覆盖台阶的侧表面和底表面的保护膜。在台阶的侧表面和底表面上经由保护膜形成有待连接至p电极的场板电极。当从PN结界面到台阶的底表面上的保护膜的表面的距离定义为h(μm)、保护膜的介电常数定义为εs、以及在台阶的侧表面上的PN结界面处的保护膜的厚...
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