高压静电保护结构的制作方法技术资料下载

技术编号:7260565

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本发明公开了一种高压静电保护结构,包括一N型LDMOS置于一硅衬底上方的N型埋层内;多晶硅栅极的右侧有源区是LDMOS的漏区,由高压N阱,P-型注入区,N-型注入区,第一P+型扩散区和第一N+型扩散区组成;第一P+扩散区以及部分场氧化区下方是P-注入区,第一N+型扩散区下方是N-注入区,P-注入区和N-注入区被高压N阱包围;多晶硅栅极的左侧有源区是此N型LDMOS的源区,由第二N+型扩散区组成,与第二N+扩散区相隔第三场氧化区有第二P+扩散区;漏区的N+型...
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