技术编号:7265518
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。一种,包括提供半导体衬底,所述半导体衬底内具有隔离结构,且相邻隔离结构间的半导体衬底表面具有栅极结构;对所述隔离结构进行稳定性掺杂,使得隔离结构的抗腐蚀能力增强;在所述栅极结构两侧的半导体衬底内形成凹槽;在对所述隔离结构进行掺杂后,对所述凹槽进行清洗处理;形成填充满所述凹槽的应力层。本发明增加了隔离结构的稳定性,提高了隔离结构材料抗刻蚀的能力,避免隔离结构被半导体器件制作工艺所刻蚀,提高隔离结构的可靠性,进而提高半导体器件的可靠性,避免发生击穿或漏电现象,...
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