半导体集成电路器件的制作方法技术资料下载

技术编号:7508492

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本发明涉及目的在于抑制来自绝缘栅极场效应晶体管的漏电流而节省功耗的半导体集成电路器件。背景技术 在半导体集成电路中,设有大量的绝缘栅极场效应晶体管(以下简称“MOSFET”)。此外,微制造加工缩短了沟道长度,并减小了栅极氧化膜厚度,从而增加了集成度或改进了操作速度。然而,却降低了阈值、或增加了漏电流与功耗的比值。于是,需要一种解决该问题的方案。众所周知,阈值或漏电流可通过调整源极—基底电压或源极—漏极电压而得到某种程度的控制。近年来的研究建议当不使该电压高...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。

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