技术编号:7793874
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供一种,其是在形成于基板上的透镜材料层上,在不经由熔融工序的情况下,形成具有图案形状的掩模层,与所述透镜材料层一起进行干式蚀刻,将所述掩模层的图案形状转印到所述透镜材料层上而形成微透镜。由于通过不经由利用作为掩模材料的光致抗蚀剂的热流的熔融工序,变得不需要用于利用熔融工序的透镜形状化的图案间间隙,所以能够缩小掩模图案间间隙,排除线宽不均。此外,由于不产生伴随熔融工序的图案间熔接,所以能够扩大掩模图案形成的工艺窗口。进而,间距方向和对角方向的蚀刻特性...
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