技术编号:8132274
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及一种紧密接触型曝光装置。背景技术 广泛应用于各个领域的光刻法(photolithographic method),是在涂布有光致抗蚀剂(photo resist)等感光材料的基板表面上通过曝光装置来感光烧成预定的图形,然后通过蚀刻(etching)工艺在基板上形成图形,近年来印刷电路基板(printed circuit board(s))也使用曝光装置来制造。在该曝光装置中,为了在曝光时使描画有图形原样的光掩模(photomask)与印刷基板的紧密接触性提高,广泛采用将两者之间抽成真空使其紧密接触...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。