技术编号:8147624
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本实用新型涉及一种等离子处理设备,尤其是涉及等离子处理设备内的温度控制 系统。背景技术等离子处理设备广泛应用于等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰 化和表面活化、改性等场合。通过其处理,能够改善材料的润湿能力,使多种材料能够进行 涂覆、镀等操作,增强粘合力、键合力,同时去除有机污染物、油污或油脂。在现有的等离子 处理设备当中,其腔体内部的电极板温度容易发生变化,导致处理均勻性差,处理效果不理术g;ο实用新型内容本实用新型的目的在于针对现有技术的缺陷,提供一种处理均勻性好的等离子处理设备。为解决上...
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