沉积工艺同步化的方法及设备的制造方法技术资料下载

技术编号:8207845

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集成电路已经发展成能在单一芯片上包括数以百万计的部件(例如晶体管、电容 器及电阻器)的复杂装置。芯片设计的演变不断地要求更快的电路和更高的电路密度。对 更高电路密度的要求必须要减小集成电路部件的尺寸。由于尺寸减小,集成芯片基板的处 理变得越来越有挑战性。 例如,在传统的基板处理中,在将导电材料填充于基板特征之前,先将薄的材料层 施加于基板特征的内表面。在理想的情况下,薄层在整个特征上会是一致的,同时最小化悬 垂部分(overhang)(在特征开口表面上的...
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