技术编号：8316595
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。曝光机是集电子光学、电气、机械、真空、计算机技术等于一体的复杂的半导体加工设备，70年代以后广泛应用于半导体集成电路制造业，是在计算机的控制下，利用聚焦电子束对有机聚合物(通常称为电子抗蚀剂或光刻胶)进行曝光。在曝光机中，反光罩的散热性能对整个设备来说是至关重要的，其直接影响曝光机内反光罩的反光效率及使用寿命，然而现有技术中对于反光罩的散热问题一直没有得到很好的解决。发明内容本发明的目的在于克服上述现有技术的问题，提供一种散热灯罩，其可有效解决反光罩的散热...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。