技术编号:8362984
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。在以液晶显示器(IXD)为代表的FPD制造过程中,在真空下对玻璃基板等被处理体实施蚀刻、成膜等各种处理。为了利用等离子体进行所述处理,而使用具有能够真空抽吸的等离子体处理容器的等离子体处理装置。在等离子体处理装置中,由于等离子体或腐蚀性气体的作用会使金属制的等离子体处理容器的内面受损。为此,要对例如铝制的等离子体处理容器的主体实施阳极氧化处理(阳极氧化处理)而提高耐蚀性。阳极氧化处理通常通过将接受处理的等离子体处理容器或其构成部件浸渍在含有硫酸或草酸的电解...
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