技术编号:8413987
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种衬底处理模块、一种包括该衬底处理模块的衬底处理设备以及一种衬底传输方法,且更特别地涉及一种允许增加腔室内的衬底的量的衬底处理模块以及包括该衬底处理模块的衬底处理设备。通常,在基于化学汽相淀积过程的衬底处理设备中,传输机械手用于将两个或更多个晶片传输到腔室的基座,以便在单个腔室内处理该两个或更多个晶片。相关技术文献(专利文献I)韩国专利公开号2007-0080767,2007年8月13日公布发明内容本公开的一个方面可提供一种用于同时在多个衬底上...
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