衬底处理模块、包括该衬底处理模块的衬底处理设备以及衬底传输方法
【专利说明】衬底处理模块、包括该衬底处理模块的衬底处理设备以及衬底传输方法
[0001]相关申请交叉引用
[0002]本申请要求于2013年12月20日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请号10-2013-0160268的优先权，其公开内容通过引用并入本文。
【背景技术】
[0003]本发明涉及一种衬底处理模块、一种包括该衬底处理模块的衬底处理设备以及一种衬底传输方法，且更特别地涉及一种允许增加腔室内的衬底的量的衬底处理模块以及包括该衬底处理模块的衬底处理设备。
[0004]通常，在基于化学汽相淀积过程的衬底处理设备中，传输机械手用于将两个或更多个晶片传输到腔室的基座，以便在单个腔室内处理该两个或更多个晶片。
[0005]【相关技术文献】
[0006](专利文献I)韩国专利公开号2007-0080767，2007年8月13日公布
【发明内容】
[0007]本公开的一个方面可提供一种用于同时在多个衬底上实施处理的衬底处理模块、一种包括所述衬底处理模块的衬底处理设备以及一种衬底传输方法。
[0008]本公开的一个方面还可提供一种用于有效地将多个衬底装载到腔室中或从腔室卸载多个衬底的衬底处理模块、一种包括所述衬底处理模块的衬底处理设备以及一种衬底传输方法。
[0009]通过以下结合附图描述的实施例，本发明的其他方面将变得明显。
[0010]根据本发明的一个方面，一种衬底处理模块包括:腔室，所述腔室具有通道，该通道形成在腔室的一侧并允许衬底经由该通道进入或离开；第一基座，所述第一基座安装在所述腔室内，设置在所述通道的前面，具有以贯穿的方式形成在第一基座的上表面中的至少一个通孔，并允许所述衬底在处理期间放置在第一基座上；第二基座，所述第二基座安装在所述腔室内，设置在所述第一基座的后面，并且允许所述衬底在处理期间放置在第二基座上；旋转部件，所述旋转部件设置在所述腔室内并基于预设位置旋转；支架，所述支架连接到所述旋转部件，与所述旋转部件一起旋转并具有允许所述衬底放置在其上的安装表面；以及支架驱动模块，所述支架驱动模块连接到所述旋转部件，并驱动所述旋转部件，以将所述支架移动到对应于所述第一基座的位置的备用位置或移动到对应于所述第二基座的位置的输送位置。
[0011]根据本发明的另一方面，一种衬底处理模块可包括:腔室，所述腔室具有由分隔件划分而成的第一处理空间和第二处理空间，并具有第一通道和第二通道，所述第一通道和第二通道形成在所述腔室的一侧并分别允许衬底进入和离开所述第一处理空间和第二处理空间；第一和第三基座，所述第一和第三基座安装在所述腔室内，分别被设置在所述第一通道的前面和所述第二通道的前面，具有以贯穿的方式形成在所述第一和第三基座的上表面中的至少一个通孔，并允许所述衬底在处理期间放置在所述第一和第三基座上；第二和第四基座，所述第二和第四基座安装在所述腔室内，分别设置在所述第一基座和所述第三基座的后面，并允许所述衬底在处理期间放置在所述第二和第四基座上；第一旋转部件和第二旋转部件，所述第一旋转部件和第二旋转部件安装在所述腔室内并分别基于预设位置旋转；第一支架，所述第一支架连接到所述第一旋转部件，以与所述第一旋转部件一起旋转，并且所述第一支架具有允许所述衬底放置在其上的安装表面；第二支架，所述第二支架连接到所述第二旋转部件以与其一起旋转，并且所述第二支架具有允许所述衬底放置在其上的安装表面；第一支架驱动模块，所述第一支架驱动模块连接到所述第一旋转部件以驱动所述第一旋转部件，并将所述第一支架移动到对应于所述第一基座的第一备用位置或移动到对应于所述第二基座的第一输送位置；第二支架驱动模块，所述第二支架驱动模块连接到所述第二旋转部件以驱动所述第二旋转部件，并将所述第二支架移动到对应于所述第三基座的第二备用位置或移动到对应于所述第四基座的第二输送位置；至少一个升降销，所述至少一个升降销分别安装在所述第一和第三基座的下方，并移动穿过所述至少一个通孔；以及升降销驱动模块，所述升降销驱动模块连接到所述至少一个升降销，并使所述至少一个升降销在升降销容纳水平和升降销装载水平之间移动，其中，在所述升降销容纳水平处，所述至少一个升降销的上端被定位成比所述第一和第三基座高，而在所述升降销装载水平处，所述安装表面被定位成比所述第一和第三基座的上表面低。
[0012]根据本发明的另一方面，一种衬底处理设备可包括:负载锁定腔室，所述负载锁定腔室允许从外侧传输的衬底放置在所述负载锁定腔室上，并具有从真空状态变化到大气压力状态的内部；衬底处理模块，所述衬底处理模块在所述衬底上实施处理；以及衬底传输模块，所述衬底传输模块设置在所述负载锁定腔室和所述衬底处理模块之间，并具有在所述负载锁定腔室和所述衬底处理模块之间传输所述衬底的衬底传输机械手，其中，所述衬底处理模块包括:腔室，所述腔室具有通道，所述通道形成在所述腔室的一侧并允许衬底经由该通道进入或离开；第一基座，所述第一基座安装在所述腔室内，设置在所述通道的前面，具有以贯穿的方式形成在其上表面中的至少一个通孔，并允许所述衬底在处理期间放置在第一基座上；第二基座，所述第二基座安装在所述腔室内，设置在所述第一基座的后面，并允许所述衬底在处理期间放置在第二基座上；旋转部件，所述旋转部件设置在所述腔室内并基于预设位置旋转；支架，所述支架连接到所述旋转部件，与所述旋转部件一起旋转并具有允许所述衬底放置在其上的安装表面；以及支架驱动模块，所述支架驱动模块连接到所述旋转部件，并驱动所述旋转部件，以将所述支架移动到对应于所述第一基座的备用位置或对应于所述第二基座的输送位置。
[0013]根据本发明的另一个方面，一种通过使用前述衬底处理模块来传输衬底的衬底传输方法可包括:将第一衬底放置在第一基座上的第一安装操作；将处于备用位置中的支架从支架装载水平改变到支架容纳水平的第一改变操作；旋转所述支架以移动到输送位置的第一移动操作；将处于输送位置中的支架从支架容纳水平改变到支架装载水平的第二改变操作；以及，将第二衬底放置在第一基座上的第二安装操作。
【附图说明】
[0014]从结合附图的以下详细描述中，将更加清楚地理解本发明的以上和其他方面、特征和其他优点，其中:
[0015]图1是示意性地示出了根据本发明的示例性实施例的衬底处理设备的视图；
[0016]图2是示意性地示出了图1所示的衬底处理模块的视图；
[0017]图3是沿图2的线A-A截取的剖视图；
[0018]图4是沿图2的线B-B截取的剖视图；
[0019]图5是示出了图2中所示的基座的视图；
[0020]图6是示出了图2中所示的支架的视图；并且
[0021]图7A至8E是示出了图2中所示的支架的操作的视图。
【具体实施方式】
[0022]下文中，将参考附图详细地描述本发明的示例性实施例。
[0023]然而，本公开可以许多不同的形式来实施，并且不应视为限于再次阐述的具体实施例。相反地，提供了这些实施例以使得本发明将是全面和完整的，并将为本领域技术人员充分地传达本发明的范围。
[0024]在附图中，元件的形状和尺寸可为了清晰而被放大，并且在全文中使用相同的附图标记来指代相同或相似的元件。
[0025]下文中下，以示例性方式描述了沉积过程，但是本发明可适用于包括沉积过程的各种过程。
[0026]图1是示意性地示出了根据本发明的示例性实施例的衬底处理设备的视图。衬底处理设备I包括处理装置(equipment) 2、装置前端模块(EFEM) 3以及接口壁4。EFEM 3安装在处理装置2的前面，以在容纳衬底的容器(未示出)和该处理装置之间传输衬底。
[0027]EFEM 3包括多个装载口 60和框架50。框架50被定位在装载口 60和处理装置2之间。通过诸如高空传输单元、高空输送单元或自动引导车的传输单元(未示出)将容纳衬底的容器放置在装载口 60上。
[0028]该容器可以是诸如前开式标准晶圆盒(FOUP)的气密容器。在放置于装载口 60上的容器和处理装置2之间传输衬底的框架机械手70被安装在框架50内。自动打开和关闭该容器的门的开门器(未示出)可安装在框架