衬底处理模块、包括该衬底处理模块的衬底处理设备以及衬底传输方法_3

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从腔室120向外排出。
[0046]图4是沿着图2的线B-B截取的剖视图。多个通孔145被形成为穿过第一和第三基座141和143的上表面。升降销161可分别安装在第一和第三基座141和143下方,并移动穿过所述通孔145。S卩,升降销161的上端穿过通孔145以便从第一和第三基座141和143的上表面突起,升降销161可定位在以下描述的升降销容纳水平处,并且在升降销161的上端被定位在通孔145内或在第一和第三基座141和143下方时,升降销161可定位在如下描述的升降销装载水平处。在升降销容纳水平处的升降销161可分别从衬底传输机械手104接收衬底W,并且随着升降销161移动到升降销装载水平,所输送的衬底W被放置在第一和第三基座141和143上。
[0047]图5是示出了图2中所示的基座的视图。参考图5,基座140具有支撑表面147,并且支撑表面147与衬底W的形状大致相同。插入凹槽149从支撑表面147凹陷,并且如下描述,当支架150下降时,支撑销155a插入到插入凹槽149中。类似地,容纳凹部(recess) 148被形成为凹陷的,低于支撑表面147,并且当支架150下降时,叉155容纳在容纳凹部148内。插入凹槽149可具有与支撑销155a大致相同的尺寸和形状,并且容纳凹部148可具有与叉155大致相同的尺寸和形状。基座140可包括用于在处理期间对放置在其上的衬底W加热的加热板(未示出)。
[0048]图6是示出了图2中所示的支架的视图。支架150包括叉155和支撑销155a。叉155可具有圆弧形状,该圆弧形状具有比衬底W直径大的内径。叉155可具有中心角等于或大于180°的圆弧形状。换句话说,叉155可具有围绕衬底W的边缘的圆弧形状,具体地弧形形状。此外,扇形可具有等于或大于180°的中心角以在衬底W被拾起和传输时提供稳定性。支撑销155a连接到叉155,并突起到叉155的内侧。支撑销155a可设置至少在叉155的中心和两端处。放置在支架150上的衬底W定位在叉155内侧并放置在支撑销155a的上表面(或安装面)上。衬底W可由以120°的相等角度设置的三个支撑销155a稳定地支撑。除了本发明示例性实施例的形状以外,支架150还可具有任何形状。
[0049]图7A到8E是示出了图2中所示的支架的操作的视图。下文中,将参考图7A到8E描述将衬底W安装在基座上的过程以及从基座移除衬底的方法。下文中,将仅描述单个支架15和两个基座141和142,但这些描述也可以相同的方式适用其余的支架152和基座143 和 144。
[0050]参考图7A到SE,升降销161可通过升降销驱动模块162来提升或降低,并且叉155和支撑销155a可通过支架驱动模块159来提升或降低。此外,当叉155被定位在容纳水平处时,叉155可旋转以移动到输送位置。
[0051]如图7A所不,衬底Wl由衬底传输机械手104通过第一通道131放置在升降销161的上端上。在这里,升降销161的上端比第一基座141高(“升降销容纳水平”)。在这种情形中,第一支架151的支撑销155a的上表面(或安装表面)比第一基座141的支撑表面147低(“支架装载水平”),支撑销155a插入到插入凹槽149中,并且叉155被容纳在容纳凹部148内。
[0052]如图7B所示,升降销161的上端通过升降销驱动模块162移动到升降销162装载水平。衬底Wl安装在第一基座141的支撑表面147上。这里,描述了衬底Wl放置在升降销161的上端上,并且升降销161的上端被移动到升降销装载水平,但本申请并不限于此,并且在其中升降销161的上端被放置在低于基座141的支撑表面147的位置(“升降销装载水平”)并且叉155和支撑销155a被定位为高于基座141 ( “支架容纳水平”)的状态中,衬底Wl可放置在支撑销155的上表面上。在这种情况下,图7A和7B的过程可以省略。
[0053]如图7C所示,第一支架151通过支架驱动模块159被提升到支架容纳水平。衬底Wl由第一支架151的支撑销155a支撑,并与支撑销155a—起被定位在支架容纳水平处。如图7D所示,第一支架151通过支架驱动模块159旋转以移动到输送位置。
[0054]如图7E所示,放置在输送位置中的第一支架151从支架容纳水平移动到支架装载水平。衬底Wl安装在第二基座142的支撑表面147上。如图7F和7G所示,衬底W2由衬底传输机械手104通过第一通道131放置在升降销161的上端上。在这种情形中,升降销161的上端被定位在升降销容纳水平处。升降销161通过升降销驱动模块162降低到升降销装载水平。
[0055]如上所述,当在两个支架中的每一个支架上放上单个衬底W时,衬底W通过支架被传输到第二和第四基座142和144,并且两个另外的衬底通过升降销161放置在第一和第三基座141和143上。随后,分别在衬底W上同时进行处理。
[0056]下文中,将参考图8A到8E描述在完成衬底W上实施的处理后,从腔室120卸载衬底W的过程。
[0057]如图8A所示,第一基座141的升降销161通过升降销驱动模块162被提升到升降销容纳水平。放置在第一基座141上的衬底W2被定位在升降销容纳水平处,并且通过衬底传输机械手104从腔室120卸载衬底W。此后,第一基座141的升降销161返回到升降销装载水平并等待衬底Wl。
[0058]如图8B所示,第一支架151通过支架驱动模块159从支架装载高度移动到支架容纳水平。衬底W2与第一支架151的支撑销155 —起被定位在支架容纳水平处。
[0059]如图8C所述,第一支架151从输送位置旋转以移动到备用位置。第一支架151在备用位置中被定位在支架容纳水平处。在这种情形中,衬底W2被定位在支架容纳水平处,并且衬底W2可由衬底传输机械手104从腔室120卸载。
[0060]如图8D所述,第一支架151可由支架驱动模块159降低,以便定位在支架装载水平处。衬底W2安装在第一基座141的支撑表面147上。如图8E所示,第一基座141的升降销161通过升降销驱动模块162从升降销装载水平提升到升降销容纳水平。衬底W2被定位在升降销容纳水平处,并且衬底W2由衬底传输机械手104从腔室120卸载。
[0061]如上所述,第一支架和第三支架可旋转以将衬底放置在备用位置或输送位置,并且第二基座和第一基座的升降销将衬底定位在升降销装载水平或升降销容纳水平处,从而允许所述多个衬底进入和离开腔室。
[0062]如上所阐明的,根据本发明的示例性实施例,多个衬底可被高效地装载到腔室中或从腔室卸载。此外,可在多个衬底上同时实施处理。
[0063]虽然以上已经示出和描述了示例性实施例,但是对于本领域技术人员来说显而易见的是,能够在不背离由所附权利要求限定的本发明范围内做出改型和变型。
【主权项】
1.一种衬底处理模块,包括: 腔室,所述腔室具有通道,所述通道形成在所述腔室的一侧并允许所述衬底经由所述通道进入或离开; 第一基座,所述第一基座安装在所述腔室内,设置在所述通道的前面,具有以贯穿的方式形成在所述第一基座的上表面中的至少一个通孔,并允许所述衬底在处理期间放置在所述第一基座上; 第二基座,所述第二基座安装在所述腔室内,设置在所述第一基座的后面,并允许所述衬底在处理期间放置在所述第二基座上; 旋转部件,所述旋转部件设置在所述腔室内,并基于预设位置而旋转; 支架,所述支架连接到所述旋转部件,与所述旋转部件一起旋转并具有安装表面,所述安装表面允许所述衬底放置在所述安装表面上;以及 支架驱动模块,所述支架驱动模块连接到所述旋转部件,并驱动所述旋转部件,以将所述支架移动到对应于所述第一基座的备用位置或移动到对应于所述第二基座的输送位置。
2.根据权利要求1所述的衬底处理模块,还包括: 至少一个升降销,所述至少一个升降销安装在所述第一基座下方,并移动穿过所述至少一个通孔;以及 升降销驱动模块,所述升降销驱动模块连接到所述至少一个升降销,并使所述至少一个升降销在升降销容纳水平和升降销装载水平之间移动, 其中,在所述升降销容纳水平处,所述至少一个升降销的上端被定位成比所述第一基座高,而在所述升降销装载水平处,所述安装表面被定位成比所述第一基座的上表面低。
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