一种湿法刻蚀设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及平板显示装置制造领域，具体涉及一种用于基板刻蚀的湿法刻蚀设备。
【背景技术】
[0002]湿法刻蚀工艺主要是指采用液态化学药品对刻蚀物进行去除的刻蚀技术，具体为通过刻蚀液与刻蚀物进行化学反应，改变刻蚀物的结构，使无光刻胶覆盖的刻蚀物部分脱离基板表面，而把有光刻胶覆盖的刻蚀物区域保存下来，这样在基板上得到了所需要的刻蚀物图形。
[0003]湿法刻蚀设备一般是在湿法刻蚀槽内利用酸性液体通过喷嘴对待刻蚀基板进行喷淋，从而达到刻蚀目的。随着平板显示行业中基板尺寸的增大，在湿法刻蚀过程中，基板表面积聚的药液越来越多从而使得基板表面的药液置换性变差，从而导致设置在基板上的刻蚀物刻蚀的均一性变差，严重影响产品的良率。
[0004]中国专利文献CN101814424A公开了一种基板处理装置，所述基板处理装置包括基板输送路径，所述基板输送路径具有形成水平的输送路径的第I输送区间、形成与上述第I输送区间连续的向上倾斜的输送路径的第2输送区间、和形成与上述第2输送区间连续的向下倾斜的输送路径的第3输送区间；即，在基板的搬送过程中，基板会出现一定角度的倾斜，可便于积聚在基板上的刻蚀液或其他液体流出，以改善基板表面液体的置换率。但是，上述基板处理装置需要合理设计的不同传送轴之间的相对高度，需要在不影响基板搬运的前提下，能够使得基板在搬送过程中呈现一定的角度可以使得刻蚀液或其他液体流出，结构复杂、设备精度要求高，较小的误差就可能影响基板搬送或基板刻蚀的均匀性，从而影响生产效率和产品良率。
【发明内容】
[0005]为此，本发明所要解决的是现有湿法刻蚀设备结构复杂、精度要求高的问题，及其导致的影响生产效率和产品良率的问题，提供一种结构简单、生产效率高、良品率高的湿法刻蚀设备。
[0006]为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案如下:
[0007]本发明所述的一种湿法刻蚀设备，包括喷射装置、传输轴以及套合设置在传输轴外壁上的多个滚轮，位于同一根所述传输轴上的多个所述滚轮中，设置在中间的所述滚轮的直径大于设置于所述传输轴两侧的各所述滚轮的直径。
[0008]各所述传输轴规格相同，且设置在同一水平面上；设置在各所述传输轴上的所述滚轮的数量相等。
[0009]同一所述传输轴上所述滚轮的数量为2n+l个，η为非零自然数；所述滚轮的直径从设置在最中间的所述滚轮分别向设置在两侧的所述滚轮依次递减。
[0010]沿各所述传输轴长度方向，设置在所述传输轴上的第m个所述滚轮的直径等于第2n+2-m个所述滚轮的直径，m小于或等于η。
[0011 ] 沿各所述传输轴长度方向，设置在所述传输轴上的第m个所述滚轮与第2n+2_m个所述滚轮到第η个所述滚轮间的距离相等，m小于或等于η。
[0012]同一所述传输轴上所述滚轮的数量为i个，i为大于3的自然数；沿各所述传输轴长度方向，设置在所述传输轴最中间的i_2j个所述滚轮的直径相等，1-2j大于O且j为非零自然数。
[0013]沿各所述传输轴长度方向，所述滚轮的直径从I个至第j+Ι个所述滚轮依次递增，从第i_j个至第i个所述滚轮依次递减。
[0014]设置在同一根所述传输轴上的所述滚轮的最大直径和最小直径的差值为15?45mm。
[0015]设置在同一根所述传输轴上的相邻两个所述滚轮的直径差值大于等于0，小于3 ?9mm ο
[0016]本发明的上述技术方案相比现有技术具有以下优点:
[0017]本发明所述的一种湿法刻蚀设备，包括喷射装置、传输轴以及设置在传输轴上的滚轮，同一根所述传输轴上，设置的中间的所述滚轮的直径大于设置在两侧各所述滚轮的直径；平板显示装置制造领域的待刻蚀基板通常比较薄，一般为0.3?0.5毫米，具有一定的可挠性(bending)，本发明所述的湿法刻蚀设备借助薄型基板本身的挠性，通过改变设置在同一传输轴上滚轮的相对直径，即设置在传输轴中间的滚轮直径大于设置在两侧的滚轮直径，传输基板时，沿垂直于基板的传输方向，基板的中部在竖直方向上高度大于其两侧的高度，刻蚀液无法在基板上方堆积，有效提高了刻蚀液的置换率，从而改善刻蚀的均匀性，提高产品的良率。而且，只需要改变滚轮直径就可以实现刻蚀液的置换，设备结构简单，精度要求低,生产效率高、产品良率高,可有效降低生产成本。
【附图说明】
[0018]为了使本发明的内容更容易被清楚的理解，下面根据本发明的具体实施例并结合附图，对本发明作进一步详细的说明，其中
[0019]图1是实施例1中所述湿法刻蚀设备搬送基板时的状态图；
[0020]图2是图1中所示结构的侧视图；
[0021]图3是实施例2中所述湿法刻蚀设备搬送基板时的状态图。
[0022]图中附图标记表示为:1-滚轮、2-传输轴、3-基板。
【具体实施方式】
[0023]为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明的实施方式作进一步地详细描述。
[0024]本发明可以以许多不同的形式实施，而不应该被理解为限于在此阐述的实施例。相反，提供这些实施例，使得本公开将是彻底和完整的，并且将把本发明的构思充分传达给本领域技术人员，本发明将仅由权利要求来限定。在附图中，为了清晰起见，会夸大层和区域的尺寸和相对尺寸。
[0025]实施例1
[0026]本实施例所述的一种湿法刻蚀设备，如图1和2所示，包括喷射装置(未图示)、传输轴2以及套合设置在传输轴2外壁上的多个滚轮1，位于同一根所述传输轴2上的多个所述滚轮I中，设置在中间的所述滚轮I的直径大于设置于所述传输轴2两侧的各所述滚轮I的直径。
[0027]平板显示装置制造领域的待刻蚀基板，如刚性的玻璃基板或柔性的聚合物基板，通常比较薄，一般为0.3?0.5毫米,具有一定的可挠性(bending),本实施例所述的湿法刻蚀设备借助薄型基板3本身的挠性，通过改变设置在同一传输轴2上滚轮I的相对直径，即，设置在传输轴2中间的滚轮I直径大于设置在两侧的滚轮I的直径，传输基板3时，沿垂直于基板3的传输方向，基板3的中部在竖直方向上高于其两侧的高度，刻蚀液从喷射装置喷射到基板3上之后，沿着基板3高度相对较低的两侧流下，无法在基板3上方堆积，有效提高了刻蚀液的置换率，从而改善刻蚀的均匀性，提高产品的良率。而且，本实施例中所述的湿法刻蚀装置只需要改变滚轮I直径就可以实现刻蚀液的置换，设备结构简单，精度要求低，生产效率高、产品良率高。
[0028]本实施例中各所述传输轴2规格相同，且设置在同一水平面上；设置在各所述传输轴2上的所述滚轮I的数量相等。如图1所示，同一所述传输