技术编号：8430993
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明涉及半导体领域，特别是涉及一种物理气相沉积设备的产能计算方法及系 统。背景技术 在制造业生产管理中，设备的产能对于所有的企业来说都是一个需要密切关注的 参数。企业需要实时统计生产现场的产量，以了解整个制造过程中的生产效率，为优化实现 生产的各项制度以及调整工艺结构提供数据支持。针对PVD(PhysicalVaporDeposition， 物理气相沉积）领域而言，设备的产能（WaferperHour,简称WPH)指的是每台设备在执行 自动Job(工艺...
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