技术编号：8456780
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。目前，相比于传统的摩擦(Rubbing)取向技术，光取向技术在静电及Mura不良等方面具有极大优势。现有的光取向技术一般采用UV(紫外线)聚合或UV降解的技术，当然，也可以使用其它与紫外线具有相同特性的光线进行光取向。以下以UV降解技术为例，图1是根据现有技术的UV降解TFT侧的PI (Polyimide,聚酰亚胺)层进行光取向的示意图，如图1所示，在使用UVll对TFT(薄膜晶体管)侧的PI12进行降解以完成进行取向的过程中，光取向的方向与UVll的偏振...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。