显示基板及制作方法、显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其是涉及一种显示基板及制作方法、显示装置。
【背景技术】
[0002]目前，相比于传统的摩擦(Rubbing)取向技术，光取向技术在静电及Mura不良等方面具有极大优势。
[0003]现有的光取向技术一般采用UV(紫外线)聚合或UV降解的技术，当然，也可以使用其它与紫外线具有相同特性的光线进行光取向。以下以UV降解技术为例，图1是根据现有技术的UV降解TFT侧的PI (Polyimide,聚酰亚胺)层进行光取向的示意图，如图1所示，在使用UVll对TFT(薄膜晶体管)侧的PI12进行降解以完成进行取向的过程中，光取向的方向与UVll的偏振方向是垂直的，透过PI12层的UVll会在基板各层之间发生反射，反射后UVll光的偏振状态及方向均发生变化，影响了光取向的效果，导致微观范围内取向紊乱、锚定效果下降现象的发生。此外，在UV取向过程中，TFT直接受到UV照射，这对TFT性能的稳定性和信赖性产生不良影响。
[0004]但是，针对上述技术问题，现有技术并没有给出一种有效的解决方案。
【发明内容】
[0005]本发明的主要目的在于提供一种能够防止反射的UV重复取向而导致微观范围内取向紊乱，锚定效果下降的现象发生，且可以进一步地避免UV照射TFT导致TFT性能变差及信赖性下降的技术方案。
[0006]为了达到上述目的，本发明提供了一种显示基板，包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上的取向层，所述取向层形成过程中采用预定光线照射取向，该显示基板还包括:设置在所述衬底基板与所述取向层之间的保护层，所述保护层能够吸收所述预定光线或者将所述预定光线转化为无法对所述取向层的取向材料进行取向的光线。
[0007]优选地，所述显示基板还包括位于所述衬底基板和所述保护层之间的平坦层。
[0008]优选地，所述保护层为掺杂有光吸收材料的平坦层，所述光吸收材料能够吸收所述预定光线。
[0009]优选地，所述保护层为掺杂有光转化材料的平坦层，所述光转化材料能够将所述预定光线转换为无法对所述取向层的取向材料进行取向的光线。
[0010]优选地，所述显示基板为阵列基板或者彩膜基板，其中，当所述显示基板为阵列基板时，所述阵列基板还包括位于所述衬底基板和所述保护层之间的薄膜晶体管。
[0011 ] 优选地，所述预定光线为紫外光。
[0012]本发明还提供了一种显示装置，该显示装置包括上述显示基板。
[0013]本发明还提供了一种显示基板的制作方法，包括:在衬底基板上形成能够吸收预定光线或者将所述预定光线转化为无法对取向层的取向材料进行取向的光线的保护层；在所述保护层上形成取向材料薄膜，并采用所述预定光线对所述取向材料薄膜进行照射最终形成所述取向层。
[0014]优选地，在形成所述保护层之前，还包括:形成平坦层。
[0015]优选地，形成所述保护层包括:形成掺杂有光吸收材料或光转化材料的平坦层，其中，所述光吸收材料能够吸收所述预定光线，所述光转化材料能够将所述预定光线转换为无法对所述取向层的取向材料进行取向的光线。
[0016]与现有技术相比，本发明所述的显示基板及制作方法、显示装置，通过在阵列基板和/或CF基板上设置紫外光吸收层或者紫外光转化层吸收或转化透过取向层的UV，可以防止反射的UV重复取向而导致微观范围内取向紊乱，锚定效果下降的现象发生，而且能够地避免UV照射TFT导致TFT性能变差以及信赖性下降。
【附图说明】
[0017]图1是根据现有技术的UV降解TFT侧的PI层进行光取向的示意图；
[0018]图2是根据本发明实施例的在阵列基板上形成紫外光吸收层的结构示意图；
[0019]图3是根据本发明实施例的在彩膜基板上形成紫外光吸收层的结构示意图；
[0020]图4是根据本发明实施例的在阵列基板上形成含有紫外光转化层的结构示意图；
[0021]图5是根据本发明实施例的在彩膜基板上形成含有紫外光转化层的结构示意图；
[0022]图6A是根据本发明实施例的在彩膜基板上形成含有紫外光吸收材料的OC层的结构示意图；
[0023]图6B是根据本发明实施例的在彩膜基板上形成含有紫外光转化材料的OC层的结构示意图；以及
[0024]图7是根据本发明实施例的显示基板的制作方法流程图。
【具体实施方式】
[0025]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域的普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0026]为了解决现有技术的上述缺陷，本发明主要提供了一种能够提高显示基板或阵列基板上的光取向层取向效果的技术方案，通过在TFT和/或CF基板上设置紫外光吸收层或者紫外光转化层的方式，从而可以达到吸收或转化透过取向层的UV的目的。
[0027]本发明提供了一种显示基板，该显示基板包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上的取向层，所述取向层形成过程中采用预定光线照射取向，该显示基板还包括:设置在所述衬底基板与所述取向层之间的保护层，所述保护层能够吸收所述预定光线或者将所述预定光线转化为无法对所述取向层的取向材料进行取向的光线。
[0028]在本发明实施例中，所述显示基板可以为阵列基板或者彩膜基板，其中，当所述显示基板为阵列基板时，所述阵列基板还包括位于所述衬底基板和所述保护层之间的薄膜晶体管。
[0029]也就是说，对于阵列基板和彩膜基板(CF基板)而言，都可以在取向层背对预定光线一侧形成能够一层用于吸收所述预定光线或者将所述预定光线转化为无法对所述取向层的取向材料进行取向的光线的保护层。
[0030]在本发明实施例中，所述预定光线可以是紫外光(UV)，当然，也可以采用与UV具有类似光取向效果的光线，对此并不受限制，另外，衬底基板可以采用目前应用范围较广的玻璃基板，需要说明的是，在以下描述的各个实施例中，显示基板都是以玻璃基板为衬底形成的，预定光线都是采用UV对取向层进行光取向的。
[0031]由于现有技术中，透过取向层(多采用PI层)的预定光线(例如，UV以及与UV具有光取向效果的光线)会在基板各层之间发生反射，这导致反射后光线的偏振状态及方向均发生变化，必然影响了对光取向层的取向效果。
[0032]因此，在衬底基板(玻璃基板)和取向层(PI层)之间设置一个能够吸收诸如UV或将UV转化为不能对PI层进行光取向的光线的保护层，就可以达到提高光取向效果的目的。
[0033]在本发明实施例中，为了使保护层能够吸收UV或者能够将UV转化为其它无法对PI层进行光取向的光，需要对保护层的材料进行选取，例如:
[0034](I)使用紫外光吸收材料形成所述保护层时，可以考虑使用效果较佳的紫外线吸收剂UVP-327，其可以吸收270nm-380nm的紫外线，而且其具有化学稳定性比较好、耐热性及机械性能较好的特点，另外由于紫外线吸收剂UVP-327属于树脂及烯烃类材料，致使其与其他物质相容性好且易于加工、用量少以及价格低廉等性质。
[0035]在实际应用中，紫外线吸收剂UVP-327的常见类型可以包括水杨酸苯酯，水杨酸及其衍生物的有效吸收光波长的范围可以达到290nm-320nm，苯并三唑及其衍生物的有效吸收光波长的范围可以达到300nm-400nm，如果通过加入磺酸基还可以改变其吸收波长范围向蓝光迀移。
[0036]另外，纳米二氧化钛(Ti02)也是一种效果优良的紫外光吸收材料，其具有很好的紫外光屏蔽作用，且具有良好的分散性及耐候性，还能透过可见光，由此可见，Τ?02是一种性能优越、极有发展前途的物理屏蔽型的紫外线防护剂。
[0037]目前，UV吸收材料吸收效率高，通常薄膜树脂用量为0.1 %左右，厚的膜材用量为I %。由于UV取向过程中大部分UV光被PI吸收，小部分UV透过PI层，因此在实际使用中UV吸收材料用量为1%就会有明显的效果。UV吸收材料通常为无色或者微黄颜色，但是在使用过程中用量较少，且膜层较薄(十几nm)，因此颜色问题几乎没有影响，如果使用过程中有色偏，可以调整彩膜及背光源进行修正。
[0038](2)使用紫外光转化材料形成所述保护层时，对于紫外光转化材料的选择有多种，需要结合液晶面板技术领域的实际需求选择效果较好的光转化剂(也称为转光剂)，由于转光剂是一类能将紫外光、绿光等转化为红光、蓝光的化学物质材料，其核心是稀土元素，如铕(Eu)、钐(Sm)等，这些元素具有特有的f_f轨道电子跃迀，可以发出特征光，具有紫外转红、蓝或绿光的作用。目前，研宄较成熟的技术是利用不同的转光剂，吸收太阳光中紫外光(波长范围基本在290nm-390nm之间)，将其转换为长波长的红光或蓝光(400nm_700nm)。
[0039]为了更好的理解转光剂的特性以便于选择，此处对转光剂进行一些介绍，转光剂按材料分类可以分为稀土无机化合物、稀土有机化合物、荧光染料，其中:
[0040]稀土无机化合物，主要包括MS:RE (Μ = Mg，Ca，Sr，Ba) (MS)紫外及绿转红稀土无机化合物、Yl-xRExV04(YV)紫外转红稀土无机化合物、Ml-xRxTil_yZry03 (Μ = Mg，Ca，Sr,Ba)