技术编号：8467231
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 多晶硅还原炉是采用"改良西门子法"制备多晶硅料的专用设备。目前国内外多 晶硅生产的最成熟技术是改良西门子法，其通过高温条件下三氯氢硅和氢气发生化学气相 沉积反应得到高纯多晶硅，同时产生大量的副产物四氯化硅需循环利用。该法制备多晶硅 最重要的设备是气相沉积反应器（CVCD反应器)，也就是通常说的还原炉，它的操作控制水 平直接关系到多晶硅的产品、成本及质量。 多晶硅还原炉通过电极对加热体通电加热至1000~1100 °c，将通入还原炉内的一 定比例的三氯氢硅...
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