技术编号:8476995
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。专利说明 相关申请的相夺引用 本申请要求2012年11月15日提交的美国临时申请61/726, 843和2012年12月 18日提交的美国临时申请61/738, 700的权益,并且其通过整体引用并入本文。 本发明涉及用于生成用于在用于器件制造的光刻应用中使用的辐射的方法和设 备。背景技术 光刻设备是将期望的图案应用到衬底上(通常到衬底的目标部分上)的机器。例 如,可以在集成电路(IC)的制造中使用光刻设备。在这种情况下,可以使用图案形成装置 (备选地称为掩...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。