技术编号：8807301
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。现在湿法刻蚀工艺生产过程中，一般采用滚轮带着药液滚动对硅片进行刻蚀或者硅片浮在药液上面进行刻蚀，随着太阳能技术的发展，湿法刻蚀的应用越来越广泛。在现有技术中，调整刻蚀量时药液的上下波动会使药液与硅片上表面进行反应，此外，刻蚀工艺槽内挥发出来的上方酸雾也会与硅片上表面进行反应。如果上述药液与硅片的上表面反应，则会导致过度刻蚀。上述问题会导致硅片正反面导通，正面扩散的PN结被破坏，受光面积降低等，这样会导致漏电较高，使电池片的转换率大幅度降低。上述提及的“漏电...
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