技术编号：8807303
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。在太阳能硅片的生产过程中，刻蚀工序在将硅片背表面和周边的PN结去掉的同时需要保证太阳能硅片正面的PN结不被破坏。为了解决这一问题，同时使太阳能硅片具有较好的光学性能，通常会在太阳能硅片表面喷射一层水膜。在喷射水膜时也同样存在一些影响水膜质量的因素。水膜在喷射到太阳能硅片正面时往往存在覆盖不完全或水膜过多、过厚的情况，当水膜在太阳能硅片的表面覆盖不完全时容易引起未被覆盖的太阳能娃片上的PN结被破坏，从而导致太阳能娃片外观受影响甚至太阳能硅片的电性不合格等问题...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。