技术编号:8820582
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。真空镀膜技术作为薄膜设备的一种重要手段,在现代微电子技术和微器件设备中占有特殊重要的地位,这种技术是指在真空环境下利用物理或化学手段在工件表面沉积一层具有特殊用途膜层的表面处理方法。镀膜设备是比较常用的设备,尤其在半导体器件工艺的电极制作工艺中更是应用广泛。真空镀膜机分为常温镀膜及高温镀膜,在高温镀膜的工况条件下,需要在真空镀膜箱中对被镀基片加热。现在用于真空镀膜的加热装置多种多样,但是现有用于真空镀膜的加热装置大多有加热效率不高,被镀基片受热不均等问题;...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。