技术编号:9075101
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。传统对焦粒焙烧法周围糊焙烧方法是焦粒铺满槽底,厚度约为三公分,阳极炭块与焦粒全接触式,焦粒与炭块之间无空间全封闭,掩埋式的,热量传递受到空间的阻隔,所以要想达到预设温度必须持续长时间加热已达到槽内温度均匀平衡,这种方法的缺点是1.无法迅速的达到平衡,2.焦粒使用量多,造成电解质污染;同时达到预设温度后需要及时取出焦粒,大量的焦粒使工人作业强度增加,如果不完全取出就会污染电解质。实用新型内容本实用新型的目的是提供一种全空腔半接触式焦粒焙烧电解槽,其解决了上述...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。