技术编号:9082501
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。TFT-1XD及半导体的显影、清洗、蚀刻及蒸镀等制程,经常会使用到大量的有机化合物进行涂布或清洗,这些有机化合物(如IPA/PGMEA/PGME等)大多会经排气装置送到后端处理排放,且大致上会在合于法规规定的下排放,但仍有部分有机化合物会逸散在无尘室作业环境内,其浓度约为数十至数百PPb左右,操作人员若长时间处在此低浓度有机废气的环境下,亦可能引发不适,特别是含有低阈值臭味有机化合物(如醋酸);再者,无尘室的空调设计及过滤器的排列主要分为两部分,一部份为外...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。