技术编号:9328688
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。在液晶显示领域中,薄膜晶体管的有源层一直使用稳定性能、加工性能等优异的硅系材料,硅系材料主要分为非晶硅和多晶硅,其中非晶硅材料迀移率很低,而多晶硅材料虽然有较高的迀移率,但用其制造的器件均匀性较差,良率低,单价高。所以近年来,用透明氧化物半导体膜来制作薄膜晶体管(TFT)的有源层,并应用于电子器件及光器件的技术受到广泛关注。如图1和图2所示的是现有的氧化物薄膜晶体管阵列基板的结构示意图,在阵列基板的制作过程中,为了防止在刻蚀源漏极的过孔中,刻蚀液对有源层产...
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