技术编号：9355362
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。现在，例如作为进行半导体或液晶等制造工序中的光刻胶的光灰化处理、纳米压印装置中的模板的图案面上所附着的光刻胶的去除或液晶用的玻璃基板及硅晶片等的干洗处理、印刷基板制造工序中的污迹的去除(去污)处理的方法，公知有使用紫外线的干洗方法。尤其是，利用通过从准分子灯放射的真空紫外线生成的臭氧等活性氧的方法能够更高效地在短时间内进行预定的处理，因此被广泛利用。作为这种光照射装置，以往提出了各种结构的装置(例如参照专利文献I?专利文献3)。作为这种利用真空紫外线的光照...
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