光照射装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种光照射装置。更详细地说，本发明涉及例如半导体或液晶等制造工序中的光刻胶的光灰化处理、纳米压印装置中的模板的图案面上所附着的光刻胶的去除或液晶用的玻璃基板及硅晶片等的干洗处理、印刷基板制造工序中的污迹的去除(去污)处理中适用的光照射装置。
【背景技术】
[0002]现在，例如作为进行半导体或液晶等制造工序中的光刻胶的光灰化处理、纳米压印装置中的模板的图案面上所附着的光刻胶的去除或液晶用的玻璃基板及硅晶片等的干洗处理、印刷基板制造工序中的污迹的去除(去污)处理的方法，公知有使用紫外线的干洗方法。尤其是，利用通过从准分子灯放射的真空紫外线生成的臭氧等活性氧的方法能够更高效地在短时间内进行预定的处理，因此被广泛利用。作为这种光照射装置，以往提出了各种结构的装置(例如参照专利文献I?专利文献3)。
[0003]作为这种利用真空紫外线的光照射装置中的一种，例如图8所示，构成为，经由透光窗对例如配置在氧气氛下的被处理物W照射来自射出真空紫外线的紫外线射出灯55的光，通过由真空紫外线生成的臭氧及活性氧，进行被处理物W的表面处理。
[0004]图8中的符号50是光源单元，具备在一方(下方)具有开口部的箱型状的壳体51。在该壳体51的开口部，构成透光窗的平板状的透光性窗构件52被设置成气密地堵塞该开口部。在壳体51内，多根棒状的紫外线射出灯55被配置成灯中心轴在同一水平面内彼此平行地延伸的状态。此外，反射镜56被设置成包围这些紫外线射出灯55。
[0005]图8中的符号60是载置被处理物W的处理台，在该处理台60的平坦的被处理物载置面61上配置有用于在光源单元50中的透光性窗构件52的光射出面52a与处理台60的被处理物载置面61之间形成预定大小的空间的框状的隔离构件65。在隔离构件65的上表面配置有密封构件66。并且，光源单元50经由该密封构件66气密地配置在处理台60上，在光源单元50与处理台60之间形成处理室S2。
[0006]此外，在处理台60中，向处理室S2内供给具有预定的氧浓度的处理用气体的处理用气体供给用贯通孔62及处理用气体排出用贯通孔63形成在彼此在面方向(灯的排列方向)上分离的位置。并且，被处理物W配置在被处理物载置面61上的处理用气体供给用贯通孔62与处理用气体排出用贯通孔63之间的位置。
[0007]在这种结构的光照射装置中，从提高处理效率(生产率)的观点考虑，透光性窗构件52的光射出面52a与被处理物W的被处理面Wa之间的距离设定为例如1.0mm以下，优选设定为0.1?0.5_。
[0008]现有技术文献
[0009]专利文献
[0010]专利文献1:日本专利第2948110号公报
[0011]专利文献2:日本特开平11-231554号公报
[0012]专利文献3:日本特开2011-181535号公报
【发明内容】
[0013]发明要解决的课题
[0014]为此，本发明人例如对厚度为0.1?0.3mm的多层印刷线路板，将透光性窗构件52的光射出面52a与被处理物W的被处理面Wa之间的间隙的大小例如设为0.2mm来尝试进行了表面处理，结果判明了无法均匀地对被处理物的被处理面进行处理。认为其原因如下。即，在厚度小的多层印刷线路板中，如图8所示，在层叠时的绝缘性树脂的贴合时及热处理时，整体翘曲，或成为波浪起伏的形状，例如存在最大产生2_左右的变形的情况。因此，无法将透光性窗构件52的光射出面52a与被处理物W的被处理面Wa之间的距离在被处理面Wa的整个区域设为均匀的大小。因此推测为，即使处理室S2内的氧浓度为均匀的状态，也在从紫外线射出灯55到达的真空紫外线的强度上产生分布，无法均匀地对被处理物W进行处理。此外，实际情况是，由于被处理物W的变形的程度存在个体差，因此这一点上也难以均匀地对被处理物W进行处理。
[0015]本发明是基于以上情况而做出的，其目的在于提供一种光照射装置，能够将透光窗的光射出面与被处理物的被处理面之间的距离实质上设定为一定的大小，能够均匀地对被处理物进行处理。
[0016]用于解决课题的方案
[0017]本发明的一种光照射装置，具备:紫外线射出灯，对配置在氧气氛下的被处理物射出真空紫外光；和透光窗，配置在上述被处理物与上述紫外线射出灯之间，透射来自该紫外线射出灯的真空紫外光，上述光照射装置的特征在于，上述透光窗经由被处理物按压用隔离件相对于上述被处理物以按压状态被配置，形成该透光窗的光射出侧的表面与该被处理物的表面之间的距离为一定大小的间隙。
[0018]在本发明的光照射装置中，优选的是，具备压力调整机构，在动作时，将上述透光窗的紫外线射出灯侧的气氛的压力维持在比上述被处理物侧的气氛的压力高的状态。
[0019]此外，在本发明的光照射装置中，优选的是，上述透光窗是在具有一定大小的厚度的基体部的光射出侧的表面上设置以按压状态与上述被处理物的表面抵接的多个突部而构成的，上述隔离件由该多个突部构成。
[0020]此外，在本发明的光照射装置中，优选的是，上述透光窗的基体部具有朝向上述被处理物侧凸起的弯曲的形态。
[0021]此外，在本发明的光照射装置中，优选的是，具备处理用气体供给机构，该处理用气体供给机构向通过上述透光窗的突部在该透光窗的基体部的光射出侧的表面与被处理物的表面之间形成的间隙，供给含有预定浓度的氧的处理用气体。
[0022]此外，在本发明的光照射装置中，优选的是，上述透光窗中的突部由透射上述真空紫外光的透光性材料构成。
[0023]此外，优选的是，上述透光窗中的突部具有该突部的通过与高度方向垂直的切面得到的截面积随着靠向前端而减小的形状。
[0024]此外，在本发明的光照射装置中，上述被处理物按压用隔离件可以由彼此不重叠地拉伸设置在上述被处理物的表面上的多个线材、或者配设在上述被处理物的表面的周缘部上的平板片构成。
[0025]此外，在本发明的光照射装置中，优选的是，具备保持上述被处理物的保持装置，在该保持装置上设置有对上述被处理物进行加热的加热机构。
[0026]发明效果
[0027]根据本发明的光照射装置，通过透光窗经由被处理物按压用隔离件按压被处理物，从而被处理物本身所具有的弯曲等变形被矫正，因此能够在形成有透光窗与被处理物之间的距离实质上被设定为一定大小的间隙的状态下进行处理。因此，能够使照射到被处理物的表面(被处理面)的真空紫外线的强度实质上均匀，并且能够使通过真空紫外线生成的臭氧的浓度实质上均匀，其结果能够均匀地对被处理物进行处理。
[0028]此外，透光窗的紫外线射出灯侧的气氛的压力通过压力调整机构维持在比被处理物侧的气氛的压力高的状态，从而除了透光窗的自重以外，还通过该压力差所作用的按压力来按压被处理物，由此被处理物的变形被矫正，因此能够更切实地得到上述效果。
[0029]此外，透光窗具有朝向被处理物侧凸起的弯曲的形态，从而该透光窗与被处理物抵接而成为呈平板状的形态的状态，由此能够以更强的力按压被处理物，因此能够切实地得到上述效果。
[0030]此外，向通过被处理物按压用隔离件确保的透光窗的光射出侧的表面与被处理物的表面之间的间隙(Gap)流通处理用气体，从而能够使被处理物的表面上的氧浓度大致一定，因此能够稳定地生成臭氧及活性氧来稳定地进行被处理物的处理。
【附图说明】
[0031]图1是概略地表示本发明的光照射装置的一例的结构的说明用截面图。
[0032]图2是概略地表示本发明的光照射装置的其他例的结构的说明用截面图。
[0033]图3是概略地表示透光窗的其他例的结构的说明图。
[0034]图4是概略地表示透光窗的其他例的结构的说明用截面图。
[0035]图5是概略地表示本发明的光照射装置的其他例中的保持装置的结构的截面图，(a)是用沿着处理用气体的流通方向的平面切断的铅垂方向截面图，(b)是用与处理用气体的流通方向正交的平面切断的铅垂方向截面图。
[0036]图6是概略地表示本发明的光照射装置的其他例中的保持装置的结构的截面图，(a)是用沿着处理用气体的流通方向的平面切断的铅垂方向截面图，(b)是用与处理用气体的流通方向正交的平面切断的铅垂方向截面图。
[0037]图7是概略地表示本发明的光照射装置的其他例中的保持装置的结构的截面图，(a)是省略一部分来表示的立体图，(b)是(a)中的A-A线截面图。
[0038]图8是概略地表示现有的光照射装置的一例的结构的说明用截面图。
【具体实施方式】
[0039]以下，详细说明本发明的实施方式。
[0040]图1是概略地表示本发明的光照射装置的一例的结构的说明用截面图。该光照射装置例如具备:保持装置，具备处理台10，该处理台10具有载置具有挠性的大致平板状的被处理物(工件)W的平坦的被处理物载置面11 ;和光源单元20，经由框状隔离件而配置在处理台10上。
[0041]光源单元20具备在一侧(图1中下方)具有开口部的大致长方体的箱型形状的壳体21。在该壳体21的开口部气密地设置有构成透射真空紫外线的透光窗的透光性