示的光照射装置中，可以设置成还具备能够将光源单元20及处理台10中的一方相对于另一方在铅垂方向上相对驱动的驱动机构的结构。根据这种结构，能够容易地进行被处理物W的更换，并且通过驱动机构能够使透光性窗构件30中的突部35切实地以按压状态与被处理物W的被处理面Wa抵接，从而能够切实地将透光性窗构件30的基体部31的光射出面32与被处理物W的被处理面Wa之间的距离(间隙的厚度)设为一定的大小。
[0093]以下，说明为了确认本发明的效果而进行的实验例。
[0094]<实验例1>
[0095]参照图1所示的结构，制作了具有以下规格的本发明的光照射装置。
[0096][处理台(10)]
[0097]尺寸:65OX 65Omm,厚度 2Omm
[0098]材质:招
[0099][加热机构]
[0100]在被处理物的被处理面的温度成为150°C的加热条件下动作的电阻加热器
[0101][光源单元(20)]
[0102]紫外线射出灯(25):发光长度为700mm、外径为Φ40的氙准分子灯
[0103]紫外线射出灯的数量:5根
[0104]输入电力:500W
[0105][透光性窗构件(30)]
[0106]基体部的尺寸:550 X 550mm,厚度7_
[0107]基体部的材质:石英玻璃
[0108]突部的尺寸:Φ 0.3_，高度0.2mm (圆柱状)
[0109]突部的形成图案:正方格子状，间距50mm
[0110]突部的材质:石英玻璃
[0111]透光性窗构件的基体部的光射出面与处理台的被处理物载面之间的距离:0.4mm(计算上的透光性窗构件的基体部的光射出面与被处理物的被处理面之间的距离:
0.2mm)
[0112]透光性窗构件对被处理物的按压力:约1000N/m2
[0113][处理用气体供给机构]
[0114]处理用气体:氧浓度100%
[0115]处理用气体的供给量:10升/min
[0116]处理室内的压力(表压):300Pa
[0117][惰性气体供给机构]
[0118]惰性气体:氮气
[0119]惰性气体的供给量:约100升/min
[0120]灯收容室内的压力(表压):400Pa
[0121]并且，作为被处理物，使用在厚度为0.1mm的铜箔上形成有厚度为0.1mm的绝缘层而成的印刷基板材料(厚度0.2_)中形成多个通孔而得到的被处理物。该印刷基板材料的尺寸为500mmX 500mm，通孔的孔径为Φ0.05_。
[0122]使用上述的光照射装置，照射30分钟的真空紫外线，从而进行印刷基板材料的去污处理，结果确认了能够将附着在通孔的上部、侧壁或底部的污迹全部去除。
[0123]<比较实验例1>
[0124]参照图8所示的结构，制作了除了使用没有突部的平板状的透光性窗构件作为透光窗以外具有与实验例I中所制作的光照射装置相同结构的比较用的光照射装置。
[0125]在该比较用的光照射装置中，将透光性窗构件的光射出面与处理台的被处理物载面之间的距离设为2.2mm(计算上，透光性窗构件的光射出面与印刷基板材料的被处理面之间的距离为0.2mm)。
[0126]使用该比较用的光照射装置，通过与实验例I同样的方法进行了印刷基板材料的去污处理，其结果确认了在一部分通孔的底部残留有污迹。认为其原因在于，实际上印刷基板材料具有起伏等，因此无法在被处理面的整个区域上将透光性窗构件的光射出面与印刷基板材料的被处理面之间的距离(间隙)设为一定，无法进行均匀的处理。实际上位于印刷基板材料的起伏的凹部分的通孔中残留有污迹，推测为由于该区域的间隙的大小比其他区域的间隙大，因此没有充分得到真空紫外线及臭氧(或活性氧)的作用。
[0127]符号说明
[0128]10、10a 处理台
[0129]11被处理物载置面
[0130]12处理用气体供给用贯通孔
[0131]13气体排出用贯通孔
[0132]15隔离构件
[0133]16密封构件
[0134]20、20a光源单元
[0135]21、21a 壳体
[0136]22气体流路管
[0137]25、25a紫外线射出灯
[0138]26反射镜
[0139]30、30a、30b、30c 透光性窗构件
[0140]31、31a 基体部
[0141]32光射出面
[0142]35、35a、35b 突部
[0143]40、40a保持装置
[0144]41、41a透光窗保持框
[0145]42窗固定构件
[0146]43 基台
[0147]45透光性窗构件
[0148]46光射出面
[0149]50光源单元
[0150]51 壳体
[0151]52透光性窗构件
[0152]52a光射出面
[0153]55紫外线射出灯
[0154]56反射镜
[0155]60处理台
[0156]61被处理物载置面
[0157]62处理用气体供给用贯通孔
[0158]63处理用气体排出用贯通孔
[0159]65隔离构件
[0160]66密封构件
[0161]70 线材
[0162]75线材保持构件
[0163]76 框体
[0164]77凸缘部
[0165]80a、80b工件按压构件
[0166]81垂直板片
[0167]82水平板片
[0168]83 缺口部
[0169]84按压部
[0170]W被处理物(工件)
[0171]Wa被处理面
[0172]SI灯收容室
[0173]S2处理室
[0174]h光射出面与被处理面之间的距离
【主权项】
1.一种光照射装置，具备:紫外线射出灯，对配置在氧气氛下的被处理物射出真空紫外光；和透光窗，配置在上述被处理物与上述紫外线射出灯之间，透射来自该紫外线射出灯的真空紫外光，上述光照射装置的特征在于， 上述透光窗经由被处理物按压用隔离件相对于上述被处理物以按压状态被配置，形成该透光窗的光射出侧的表面与该被处理物的表面之间的距离为一定大小的间隙。2.根据权利要求1所述的光照射装置，其特征在于， 具备压力调整机构，在动作时，将上述透光窗的紫外线射出灯侧的气氛的压力维持在比上述被处理物侧的气氛的压力高的状态。3.根据权利要求1或2所述的光照射装置，其特征在于， 上述透光窗是在具有一定大小的厚度的基体部的光射出侧的表面上设置以按压状态与上述被处理物的表面抵接的多个突部而构成的， 上述被处理物按压用隔离件由该多个突部构成。4.根据权利要求3所述的光照射装置，其特征在于， 上述透光窗的基体部具有朝向上述被处理物侧凸起的弯曲的形态。5.根据权利要求3所述的光照射装置，其特征在于， 具备处理用气体供给机构，该处理用气体供给机构向通过上述透光窗的突部在该透光窗的基体部的光射出侧的表面与被处理物的表面之间形成的间隙，供给含有预定浓度的氧的处理用气体。6.根据权利要求3所述的光照射装置，其特征在于， 上述透光窗中的突部由透射上述真空紫外光的透光性材料构成。7.根据权利要求3所述的光照射装置，其特征在于， 上述透光窗中的突部具有该突部的通过与高度方向垂直的切面得到的截面积随着朝向前端而减小的形状。8.根据权利要求1或2所述的光照射装置，其特征在于， 上述被处理物按压用隔离件由彼此不重叠地拉伸设置在上述被处理物的表面的多个线材构成。9.根据权利要求1或2所述的光照射装置，其特征在于， 上述被处理物按压用隔离件由配设在上述被处理物的表面的周缘部上的平板片构成。10.根据权利要求1或2所述的光照射装置，其特征在于， 具备保持上述被处理物的保持装置，在该保持装置上设置有对上述被处理物进行加热的加热机构。
【专利摘要】本发明的目的在于提供一种光照射装置，能够将透光窗的光射出面与被处理物的表面之间的距离实质上设定为一定的大小，能够均匀地对被处理物进行处理。该光照射装置具备：紫外线射出灯，对配置在氧气氛下的被处理物射出真空紫外光；和透光窗，配置在被处理物与紫外线射出灯之间，透射来自紫外线射出灯的真空紫外光，透光窗经由被处理物按压用隔离件相对于被处理物以按压状态被配置，形成透光窗的光射出侧的表面与被处理物的表面之间的距离为一定大小的间隙。
【IPC分类】H01L21/027, B08B7/00, H01L21/304
【公开号】CN105074882
【申请号】CN201480018747
【发明人】广濑贤一, 村上哲也
【申请人】优志旺电机株式会社
【公开日】2015年11月18日
【申请日】2014年3月12日
【公告号】WO2014156628A1