窗构件30，由此在壳体21的内部形成密闭的灯收容室SI。在壳体21内，各棒状的紫外线射出灯25被排列设置成，中心轴在同一水平面内彼此平行地延伸。此外，在光源单元20的光照射方向上的紫外线射出灯25的背面侧的位置，设置有反射镜26。此外，壳体21中设置有例如净化氮气的惰性气体的惰性气体净化机构(未图示)。
[0042]该光源单元20的壳体21的下表面经由密封构件16与配置在处理台10的被处理物载置面11上的矩形框状的隔离构件15的上表面对接配置，由此在光源单元20与处理台10之间形成处理室S2。
[0043]作为紫外线射出灯25，只要放射真空紫外线，就可以使用公知的各种灯。具体地说，例如，作为紫外线射出灯25，可以例示放射185nm的真空紫外线的低压水银灯、放射中心波长为172nm的真空紫外线的氙准分子灯、或者在发光管内封入有氙气且在发光管的内表面涂布例如射出190nm的真空紫外线的荧光体而成的荧光准分子灯等。
[0044]如图1的光照射装置所示，例如在将来自紫外线射出灯25的真空紫外线向被处理物W—齐照射来进行处理的结构的光照射装置中，为了获得被处理物W的表面(以下，还称为“被处理面”)Wa上的紫外线强度的均一性，作为紫外线射出灯25，优选使用圆筒型的紫外线射出灯。
[0045]该光照射装置具备向处理室S2内供给含有预定浓度的氧的处理用气体的处理用气体供给机构。
[0046]具体说明处理用气体供给机构，在处理台10上分别形成有在处理台10的厚度方向上贯通而延伸的处理用气体供给用贯通孔12及气体排出用贯通孔13，在处理用气体供给用贯通孔12上连接有未图示的处理用气体供给源。处理用气体供给用贯通孔12及气体排出用贯通孔13均由例如开口形状沿着紫外线射出灯25的灯轴方向延伸的长圆形的长孔构成。并且，处理用气体供给用贯通孔12及气体排出用贯通孔13例如形成于在紫外线射出灯25的排列方向上彼此分离的位置。在此，被处理物W在处理台10的被处理物载置面11上配置于灯的排列方向上的处理用气体供给用贯通孔12与气体排出用贯通孔13之间的位置。
[0047]向处理室S2内供给的处理用气体的氧浓度优选为例如50%以上，更优选为80%以上。由此，能够增多通过真空紫外线生成的臭氧及活性氧的量，能够切实地进行预期的处理。
[0048]这样，在该光照射装置中，透光性窗构件30经由被处理物按压用隔离件相对于被处理物W以按压状态被配置，形成有透光性窗构件30的光射出侧的表面与被处理物W的表面Wa之间的距离h为一定的大小的间隙。具体地说，透光性窗构件30由具有一定大小的厚度的平板状的基体部31、以及在该基体部31的光射出侧的表面(以下，称为“光射出面”)32上一体地设置的多个突部35构成。并且，透光性窗构件30的各突部35的前端面以按压状态与被处理物W的被处理面Wa抵接地配置，从而各突部35作为将基体部31的光射出面32与被处理物W的被处理面Wa之间的距离h设为一定的大小的被处理物按压用隔离件而发挥作用。在此，基体部31的光射出面32与被处理物W的被处理面Wa之间的距离h例如优选为Imm以下，特别优选0.5mm以下。由此，能够稳定地生成臭氧及活性氧，并且能够使到达被处理物W的被处理面Wa的真空紫外线成为足够大小的强度(光量)。
[0049]各突部35例如是具有彼此相同的高度的圆柱状，在基体部31的光射出面32上设置成以散点状存在的状态。
[0050]突部35优选设置成各突部35的前端面的面积的合计为基体部31的光射出面32的面积的20%以下的大小。此外，各突部35的前端面的面积优选为前端面的合计面积的20%以下的大小。通过设置成这样的结构，能够将突部35引起的真空紫外线的遮光及处理用气体的流通的阻碍程度抑制得小。
[0051]突部35的形成图案(pattern)没有特别限定，例如可以是多个突部35以预定大小的间距(中心间距离)配置成格子状的结构。此外，例如在被处理物W在光源单元20的光照射区域内具有不需要处理的非处理区域的情况下，也可以设置成大量的突部35位于与该非处理区域对应的区域的不均匀分布的状态。此外，为了使处理用气体在被处理物W的被处理面Wa上流通，优选的是，多个突部35被配置成，形成从处理用气体供给用贯通孔12连通到气体排出用贯通孔13的突部35之间的间隙。
[0052]如上所述考虑到同基体部31的光射出面32与被处理物W的被处理面Wa之间的距离h的大小的关系，突部35的高度优选为例如Imm以下，特别优选0.5mm以下。
[0053]以上，作为构成透光性窗构件30的基体部31的材料，只要如上所述对从紫外线射出灯25放射的真空紫外线具有透射性，且对真空紫外线及臭氧具有耐性，就例如能够使用石英玻璃。
[0054]此外，在突部35由与基体部31不同的其他构件构成的情况下，作为构成突部35的材料，只要对真空紫外线及臭氧具有耐性，就可以使用各种材料，但是从能够抑制因突部35的存在而遮挡真空紫外光的方面考虑，优选使用对真空紫外线具有透光性的例如石英玻璃。
[0055]该透光性窗构件30例如能够通过光刻法来制作。具体地说，在掩盖(Mask)平板状的透光窗形成材料的一面的状态下，例如通过氢氟酸来进行蚀刻，从而形成突部35，由此能够得到图1所示的透光性窗构件30。
[0056]此外，也可以掩盖平板状的透光窗形成材料的一面上的突部形成部位，通过喷砂处理、磨削加工来削去该一面，从而形成突部35，由此制作图1所示的透光性窗构件30。此夕卜，可以在例如由石英玻璃构成的平板状的透光窗形成材料的一面上例如配置玻璃珠等，并例如用电炉进行加热而熔接玻璃珠来形成突部35，由此制作图1所示的透光性窗构件30 ο
[0057]在本发明的光照射装置中，优选具备压力调整机构，在动作时，该压力调整机构将透光性窗构件30的紫外线射出灯25侧的气氛的压力维持在比被处理物W侧的气氛的压力高的状态。
[0058]压力调整机构具有调节惰性气体净化机构的惰性气体的供给量及处理用气体供给机构的处理用气体的供给量，以使灯收容室SI内的压力维持比处理室S2内的压力高的状态的功能。通过设置成灯收容室SI内的压力比处理室S2内的压力高的状态，能够通过该压力差使透光性窗构件30的突部35切实地以按压状态与被处理物W的被处理面Wa抵接。另一方面，在以成为处理室S2内的压力比灯收容室SI内的压力高的状态的方式供给处理用气体的情况下，因该压力差，力朝向使透光性窗构件30与被处理物W分离的方向发挥作用，因此存在无法使透光性窗构件30的突部35以按压状态与被处理物W的被处理面Wa抵接的情况。
[0059]基于处理用气体的供给的处理室S2内的压力(表压)优选设置成例如300Pa以上。此外，基于惰性气体的净化的灯收容室SI内的压力(表压)优选设置成例如400Pa以上。并且，灯收容室SI内与处理室S2内的压力差优选设置成例如10Pa以上。
[0060]此外，在本发明的光照射装置中，优选在处理台10中设置对被处理物W加热的加热机构(未图示)。根据该结构，随着被处理物W的被处理面Wa的温度上升，能够促进臭氧及活性氧的作用，因此能够高效地进行处理。此外，由于能够在使处理用气体升温的状态下供给到处理室S2内，因此通过使处理用气体沿着被处理物W的被处理面Wa流通，也能够使被处理物W的被处理面Wa的温度上升，能够更切实地得到上述效果。
[0061]加热机构的加热条件优选为，被处理物W的被处理面Wa的温度达到例如80°C以上且340°C以下的条件，更优选的是达到80°C以上且200°C以下的条件。
[0062]在该光照射装置中，在将被处理物W载置在处理台10的被处理物载置面11上的处理用气体供给用贯通孔12与气体排出用贯通孔13之间的位置的状态下，在处理台10上，经由隔离构件15及密封构件16配置光源单元20。由此，透光性窗构件30的突部35分别以按压状态与被处理物W的被处理面Wa抵接，被处理物W的被处理面Wa与透光性窗构件30的基体部31的光射出面32之间的距离h成为一定的大小。在该状态下，通过压力调整机构适当控制了供给量的惰性气在灯收容室SI内被净化，并且供给量被适当控制的处理用气体在处理台10的处理用气体供给用贯通孔12中流通的过程中通过加热机构升温而被供给到处理室S2内。由此，维持灯收容室SI内的压力比处理室S2内的压力高的状态。在此，透光性窗构件30对被处理物W的按压力例如为ΙΟΟΟΝ/m2左右。被供给到处理室S2内的处理用气体，在通过透光性窗构件30的突部35形成在透光性窗构件30的基体部31的光射出面32与被处理物W的被处理面Wa之间的间隙中，沿着该光射出面32及被处理面Wa流通。
[0063]并且，通过点亮各紫外线射出灯25，来自该紫外线射出灯25的真空紫外线经由透光性窗构件30朝向被处理物W照射。由此，通过到达被处理物W的被处理面Wa的真空紫外线及由真空紫外线生成的臭氧及活性氧，进行被处理物W的被处理面Wa的处理。
[0064]并且，在上述的光照射装置中，透光性窗构件30的各突部35的前端面以按压状态与被处理物W的被处理面Wa抵接。因此，根据上述结构的光照射装置，被处理物W本身所具有的弯曲等变形被矫正，由此能够在透光性窗构件30的基体部31的光射出面32与被处理物W的被处理面Wa之间的距离h在被处