技术编号：9434447
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。目前高PPI (Pixels Per Inch)已经成为中小尺寸显示装置的主要发展方向，为了实现更好的TFT(薄膜晶体管)特性以保证高PPI的充电需求，在产品中多采用顶栅结构。但是顶栅结构的工艺一般较复杂，掩膜工艺繁多，因此成本和良率成为面板厂商最为亟待解决的问题。为了避免背光源的强光直接照射背沟道产生漏电流，一般在半导体层之前需要制作一层遮光层。现有技术中的遮光层通常采用金属Mo制作，单独进行一次掩膜工艺形成图案。有的产品为了减少掩膜工艺次数以降低成本，...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。