技术编号：9438771
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 作为用于IC、LSI等半导体制造、IXD等显示装置的制造、印刷原版的制造等的抗 蚀剂，已知使用碱溶性树脂和1，2-萘醌二叠氮化合物等光敏剂的正型光致抗蚀剂。关于前 述碱溶性树脂，提出了使用由间甲酚酚醛清漆树脂和对甲酚酚醛清漆树脂形成的混合物作 为碱溶性树脂的正型光致抗蚀剂组合物（例如，参照专利文献1。）。 专利文献1中记载的正型光致抗蚀剂组合物是为了提高灵敏度等显影性而开发 的，近年来，半导体的高集成化高涨，图案更加倾向于细线化，开始要求更优异的灵敏度。...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。